ウエファーの水平な光学 - EV のグループによってウエファーのレベルの光学のために使用できる導入および解決

カバーされるトピック

概要
 ウエファーの水平なカメラ (WLCs)
マスターのスタンプの製造
 Microlens の紫外線鋳造物
 一直線に並べられた紫外線結合

概要

デジタルカメラ、携帯電話の携帯用賭博コンソール、ラップトップか netbooks のような現代電子デバイスでは、マイクロ光学システムはカメラのモジュールの中の画像センサーの現実の世界とマイクロエレクトロニクス間の決定的なインターフェイスです。現在、カメラのモジュールアセンブリの汎用概念は確立した半導体技術を使用して離散アセンブリからのウエファーレベルの統合への転移を経ます。ウエファーレベルのカメラは既により小さい形式要素および低価格パフォーマンス比率による慣習的なモジュールを取り替え始めてしまいました。

ウエファーの水平なカメラ (WLCs)

ウエファーの水平なカメラは (WLCs)すべての個々の部品がウエファーのレベルで製造され、カメラの軽い捕獲の効率を高める CMOS の画像センサーおよびマイクロ光学 (CIS)スタックから成っている 1 つの 1 パートを形作るために結ばれる装置です。

最初にナノメーターの範囲の構造のコスト効率が高い複製のために開発される紫外線押印の石版印刷は、今非常に平行多くの製造プロセスのウエファーレベルの光学の製造のための強力なツールとして考慮されます。

EV のグループは確立したマスク位置合わせおよび nanoimprint の石版印刷システムに基づいてウエファーのレベルで製造業者に光学要素のマスターのスタンプの製造、複製および統合を含む解決の完全な範囲を、提供します。その製品のポートフォリオは非常に多目的で、非常にカスタマイズされたハードウェアおよびソフトウェアプロセスを実行することを顧客が可能にします。 EV のグループのクリーンルーム機能のプロセス開発そして最適化とつながれて、 EV のグループはプロセス統合および材料のノウーハウにシステム構成からの総解決および製造を提供します。

典型的なウエファーレベルのカメラのモジュールの要素はこの分解部品配列図に示すように紫外線押印の石版印刷によってガラスキャリアに、スペーサおよび開口層を、形成される CMOS の画像センサー、重合体レンズ含んでいます。
ソース: EVG.

マスターのスタンプの製造

ステップおよび繰り返し (S&R) のアプローチの 1 つの単レンズのテンプレートから複製されるマスターのスタンプは十分に microlens 型それぞれと位置付けられるウエファーサイズのテンプレートです。金属かガラスからなされる単レンズのマスターから開始して EV のグループは <100nm の無比レンズの位置の正確さを特色にするマスターのスタンプの製造のためのすべての必要なプロセスステップをカバーし、ハイエンドウエファーの製造に必要な高いレンズの形の反復性がカメラのモジュールを水平にするプロセスフローを提供します。

EV のグループが特色にする個々の S&R プロセスステップ:

ウエファーを渡る単レンズのテンプレートの高精度の位置
しぶきはマスターのスタンプ材料の分配します
償われた力か間隔によって制御される高精度の最初押印を詰め込んで下さい
紫外線露出
Demolding

詳細情報については私達の関連製品 EVG®770 GEN II NILStepper を見て下さい。

Microlens の紫外線鋳造物

柔らかい紫外線押印の石版印刷は重合体の microlenses、ウエファーのレベルの光学系のキーエレメントの製造のための非常に平行技術です。ウエファーサイズのマスターのスタンプから複製される柔らかい働くスタンプから開始してスタンプおよび microlens 材料を働かせるためのさまざまで物質的な組合せに容易に適応させることができるプロセスを形成している EV のグループはハイブリッドおよび単一 microlens を提供します。さらに、すべての関連した物質的なノウーハウを含むプロセスを形成している EV のグループは修飾された microlens を提供します。

柔らかい紫外線押印の石版印刷は単一および二重側面レンズの鋳造物のためにセットアップしました。
ソース: EVG.

EV のグループが特色にする個々の紫外線鋳造物プロセスステップ:

水溜は光学プレポリマーの分配します
償われた力か間隔によって制御される一直線に並べられた押印を詰め込んで下さい
紫外線露出
Demolding

詳細情報については私達の関連製品 I.Q. Aligner® を見て下さい。

柔らかい紫外線押印の石版印刷によって製造される側面 300mm レンズのウエファーを選抜して下さい。
ソース: EVG.

一直線に並べられた紫外線結合

最終的なマイクロ光学スタックは最終的なスタック高さを達成するために必要な個々の二重側面の microlens のウエファー、またスペーサのウエファーを含むすべての要素の紫外線結合によって、製造されます。重大なパラメータはレンズにスペーサのアラインメントの正確さ、生じるとらわれのインターフェイスおよびウエファースループットの総厚さの変化です。