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簡介產品說明準備指令 - 指南為使用真空版本盤 固定器 裝貨工具 列陣聯絡/刪除 膜淚花關於斯格碼 Aldrich 簡介
碳 Nanotube (CNT) 列陣由化學氣相沉積系統 (CVD)綜合。 不同的基體用鎳 nanoparticles 塗然後介紹給 CVD 房間。
產品說明
Aldrich 材料學聘用多圍住了碳在 (CNT)真空 Release™ (VR) 盤垂直對齊在硅或銅基體和包裝的 nanotube 列陣。 這些列陣精選的屬性可以在表 1. 找到。
| 產品編號 | 產品名稱 | 基體 | 純度 |
| 687804 | 多被圍住的碳 Nanotube 列陣 | <100> 硅水 | >99.9% (碳基本類型) |
| 687812 | 多被圍住的碳 Nanotube 列陣 | 銅薄酥餅 | >99.9% (碳基本類型) |
VR 盤安全地拿著這個列陣到位在發運或處理，提供期間這個能力發行這個列陣在要求時。 所有權真空版本進程依靠更改在列陣和膠凝體膜之間的表面接觸區在盤表面。 在留成模式下 (圖 1)，表面接觸最大化，并且這個列陣穩固地對負到位。 在版本模式下 (圖 2)，表面接觸通過適用真空畫遠離這個列陣的膠凝體膜減到最小。 使用真空工具或鑷子，這個列陣在這個垂直的方向可能容易地然後被去除。
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圖 1. 留成模式，沒有真空
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圖 2. 版本模式，吸塵應用
準備指令 - 指南為使用真空版本盤
固定器
在被設計的真空牌照應該確定 VR 盤提供真空到盤的下面。 然而獨立崗位是商業可用的，当適合保健適用房子真空於盤的後側方 (通過在盤背後的漏洞) 應該也從事。 最佳的刪除結果通過適用真空得到 25" Hg。 膠凝體膜也許看來在版本模式下甚而在相對地低真空情況下，但是充分的真空為最佳的版本是必要的。
裝貨工具
應該用於最大的鑷子工具與列陣範圍兼容為了提供最大轉彎或循環行動。 暫掛力量的膠凝體是最弱的在果皮方向，因此，這個列陣可以從膠凝體容易地被去除被適用循環。
列陣聯絡/刪除
應該減到最小在裝貨工具和這個列陣之間的聯絡強制，因此這個列陣沒有被按到膠凝體膜。 一次這個列陣由裝貨工具適當地從事，上升的費率應該最初是慢的。 迅速上升可能傾向於從工具分隔這個列陣。
膜淚花
膠凝體膜是相對地脆弱的，并且應該他小心處理了。 如果膜撕毀，則在盤的真空損失將發生，可能禁止列陣刪除。
真空版本是膠凝體樸商標。 圖膠凝體樸禮貌。
關於斯格碼 Aldrich
斯格碼Aldrich® 是一家主導的高技術公司。 通過我們的材料化學成就卓越中心在研究和製造中我們開發先進，啟用您微小/nanoelectronics、可選擇能源、顯示/光電子學、納米技術和相關材料學的材料和設計應用。 專業包括 ALD 前體、超離頻的純度無機鹵化物、燃料電池材料、電子成績染料、專業單體和 cGMP 等級聚合物。
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來源： 斯格碼 Aldrich
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