Aguafuerte de Nanoscale Usando la Fuente del ICP de la Cobra

Por AZoNano

Índice

Introducción
Retos Hechos Frente en la Aguafuerte de Nanoscale
Fuente de la Cobra
Sobre Tecnología del Plasma de los Instrumentos de Oxford

Introducción

La Tecnología del Plasma de los Instrumentos de Oxford (OIPT) ha estado trabajando en la aguafuerte del nanoscale para varias tallas de atracción de los años debajo de 100 nanómetro y están agregando continuamente a su cartera del `' de los materiales grabados el ácido. La adaptabilidad de la nueva fuente del ICP de la Cobra activará la aceleración de su capacidad en la aguafuerte del nanoscale. OIPT se establece bien para explotar la revolución cada vez mayor de la nanotecnología, no sólo con sus herramientas de la aguafuerte pero también con sus herramientas del incremento y de la deposición. Son un surtidor de cabeza de tales herramientas a muchos de los centros de investigación mayores de la nanotecnología y universidades en el mundo. Esta nota de aplicación se centra en el aspecto de la aguafuerte de la nanotecnología, donde hay varias aplicaciones en memorias, visualizaciones, dispositivos nuevos optoelectrónico y de quantum el calcular del semiconductor.

Retos Hechos Frente en la Aguafuerte de Nanoscale

La aguafuerte de Nanoscale es fundamental difícil por dos razones básicas:

  1. Transporte Difícil de la especie neutral dentro y fuera de las características más pequeñas y
  2. Los efectos Crecientes de cargar por los iones y los electrones como flancos se reúnen cercanos. La situación es compuesta por el hecho que en el diseño de dispositivos más minúsculos, el encogimiento lateral está generalmente más que el encogimiento vertical así que los aumentos de la relación de aspecto.

Las herramientas de OIPT ICP tienen la capacidad de operatorio en la presión inferior con todo con la alta densidad del plasma y el polarizado (controlable) inferior de DC que se pueden comparar a RIE simple. La presión Inferior aumenta anisotropía reduciendo dispersar de la especie por colisiones de la fase de gas.

Fuente de la Cobra

La última fuente de la Cobra proporciona a adaptabilidad creciente con las opciones siguientes:

  1. El espaciador Activo activa el mando independiente de la distribución del ión y ofrece uniformidad de proceso optimizada a través del electrodo.
  2. Pulsación: Fuente del ICP. La Pulsación reduce el fulminante que carga para la aguafuerte aumentada de la relación de aspecto. Puede también ser utilizada para el ajuste de las relaciones de transformación del radical de ión. La potencia Diagonal que pulsa, que se hace normalmente con potencia de baja fricción reduce el hacer muescas en los interfaces con los aisladores y disminuye la aguafuerte relacionada de la relación de aspecto (ARDE).

El Libro Blanco referido abajo da varios ejemplos de la aguafuerte del nanoscale en las áreas específicas de la litografía de la nano-impresión y los agujeros así como silicio cristalino fotónico y otros grabados de pistas diversos. Los dos ejemplos dados aquí en el Cuadro 1 y el Cuadro 2 están por cortesía de la Física de Anders Holmberg, del Biomedical y de la Radiografía, Instituto de Tecnología Real, Estocolmo, Suecia.

El Cuadro 1. química2 de proceso de O en -100°C utiliza la capacidad de la baja temperatura del Sistema 100 ICP65 para la aguafuerte anisotrópica del polyimide del nanoscale de HAR. 50 polyimide-rejillas del mitad-tono del nanómetro, 500 nanómetro alto (10:1 de AR) .10nm evaporaron la máscara dura titanium. Tipo 100nm/min. del grabado de pistas del Polyimide.

El Cuadro 2. química2 de proceso del Cl utilizó en el Sistema 100 ICP65 para el nanoscale anisotrópico GE de la alta relación de aspecto que grababa el ácido la máscara dura titanium evaporada 10nm. Mitad-tono GE-Grating, 310nm del tipo 100nm/min. 25 nanómetro del grabado de pistas de GE profundamente (AR 12: 1).

Lea la Aguafuerte completa de Nanoscale de la crítica en Sistemas del ICP de los Instrumentos de Oxford en un Libro Blanco Sido autor por transferible Galés de Colin del sitio de la Tecnología del Plasma de los Instrumentos de Oxford.

Sobre Tecnología del Plasma de los Instrumentos de Oxford

La Tecnología del Plasma de los Instrumentos de Oxford proporciona a un rango del alto rendimiento, de herramientas flexibles al semiconductor que tramita a los clientes implicados en la investigación y desarrollo, y de la producción. Se especializan en tres áreas principales:

  • Grabado De Pistas
    • RIE, ICP, DRIE, RIE/PE, Haz de Ión
  • Deposición
    • PECVD, CVD del ICP, Nanofab, ALD, PVD, IBD
  • Incremento
    • HVPE, Nanofab

Esta información ha sido originaria, revisada y adaptada de los materiales proporcionados por Tecnología del Plasma de los Instrumentos de Oxford.

Para más información sobre esta fuente, visite por favor la Tecnología del Plasma de los Instrumentos de Oxford.

Date Added: Nov 16, 2011 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 14. June 2013 09:51

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