Gravura A Água-forte de Nanoscale Usando a Cobra ICP Source

Por AZoNano

Índice

Introdução
Desafios Enfrentados Gravura A Água-forte de Nanoscale
Cobra Source
Sobre a Tecnologia do Plasma dos Instrumentos de Oxford

Introdução

A Tecnologia do Plasma dos Instrumentos de Oxford (OIPT) tem trabalhado gravura a água-forte do nanoscale para diversos tamanhos de caracterização dos anos abaixo de 100 nanômetro e estão adicionando continuamente a sua carteira do `' dos materiais gravados. A flexibilidade da fonte nova da Cobra ICP permitirá a aceleração de sua capacidade gravura a água-forte do nanoscale. OIPT é estabelecido bem para explorar a revolução crescente da nanotecnologia, não somente com suas ferramentas gravura a água-forte mas igualmente com suas ferramentas do crescimento e do depósito. São um fornecedor principal de tais ferramentas a muitas das instalações de investigação principais da nanotecnologia e universidades no mundo. Esta nota de aplicação centra-se sobre o aspecto gravura a água-forte da nanotecnologia, onde há diversas aplicações nas memórias, nos indicadores, em dispositivos novos a optoelectronic e de quantum da computação do semicondutor.

Desafios Enfrentados Gravura A Água-forte de Nanoscale

Gravura a água-forte de Nanoscale é fundamental difícil para duas razões básicas:

  1. Transporte Difícil da espécie neutra dentro e fora das características menores e
  2. Os efeitos Aumentados de cobrar por íons e por elétrons como sidewalls obtêm próximos junto. A situação é combinada pelo facto que no projecto de uns dispositivos mais minúsculos, o psiquiatra lateral está geralmente mais do que o psiquiatra vertical assim que os aumentos do prolongamento.

As ferramentas de OIPT ICP têm a capacidade para operar-se na baixa pressão contudo com densidade alta do plasma e baixa polarização (verificável) da C.C. que podem ser comparadas a RIE simples. A Baixa pressão aumenta a anisotropia reduzindo a dispersão da espécie por colisões da fase de gás.

Cobra Source

A fonte a mais atrasada da Cobra fornece a flexibilidade aumentada com as seguintes opções:

  1. O espaçador Activo permite o controle independente da distribuição do íon e oferece a uniformidade aperfeiçoada do processo através do eléctrodo.
  2. Pulsação: ICP Source. Pulsar reduz a bolacha que cobra para gravura a água-forte aumentada do prolongamento. Pode igualmente ser usada para o ajuste de relações do radical de íon. A potência Diagonal que pulsa, que é feita normalmente com potência de baixa frequência reduz-se entalhar em relações com isoladores e minimiza-se gravura a água-forte dependente do prolongamento (ARDE).

O Livro Branco referido abaixo dá diversos exemplos gravura a água-forte do nanoscale nas áreas específicas da litografia da nano-impressão e furos assim como silicone de cristal fotónico e outras gravura em àgua forte variadas. Os dois exemplos dados aqui em Figura 1 e em Figura 2 são com a permissão da Física de Anders Holmberg, de Biomedical e de Raio X, Instituto de Tecnologia Real, Éstocolmo, Suécia.

A Figura 1. química2 do processo de O em -100°C usa a capacidade da baixa temperatura do Sistema 100 ICP65 para gravura a água-forte anisotrópica do polyimide do nanoscale de HAR. 50 polyimide-gratings do metade-passo do nanômetro, 500 nanômetro (10:1 da AR) .10nm alto evaporaram a máscara dura titanium. Taxa 100nm/min. gravura em àgua forte do Polyimide.

A Figura 2. química2 do processo do Cl usou-se no Sistema 100 ICP65 para o Ge anisotrópico alto do nanoscale do prolongamento que grava a máscara dura titanium evaporada 10nm. Metade-passo GE-Grating, 310nm da taxa 100nm/min. 25 nanômetro gravura em àgua forte do Ge profundamente (12:1 da AR).

Leia Gravura A Água-forte completa de Nanoscale do artigo de revisão em Sistemas dos Instrumentos ICP de Oxford em um Livro Branco sido o autor por carregável Welch de Colin do local da Tecnologia do Plasma dos Instrumentos de Oxford.

Sobre a Tecnologia do Plasma dos Instrumentos de Oxford

A Tecnologia do Plasma dos Instrumentos de Oxford fornece uma escala do elevado desempenho, de ferramentas flexíveis ao semicondutor que processa os clientes envolvidos na investigação e desenvolvimento, e de produção. Especializam-se em três áreas principais:

  • Gravura Em Àgua Forte
    • RIE, ICP, DRIE, RIE/PE, Feixe de Íon
  • Depósito
    • PECVD, CVD do ICP, Nanofab, ALD, PVD, IBD
  • Crescimento
    • HVPE, Nanofab

Esta informação foi originária, revista e adaptada dos materiais fornecidos pela Tecnologia do Plasma dos Instrumentos de Oxford.

Para obter mais informações sobre desta fonte, visite por favor a Tecnologia do Plasma dos Instrumentos de Oxford.

Date Added: Nov 16, 2011 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 14. June 2013 09:44

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