Nano 난수는 전기도금을 한 금속의 성과를 향상합니다

커버되는 토픽

소개
왜 그리고 은은 어디에 이용됩니까?
산업 응용에 있는 은에 대한 문제
은에 흑연 Microparticles 추가
Nanoparticles를 사용하는 전기도금을 한 은의 향상된 기계적인 안정성
전기도금을 한 은에 대한 PlasmaChem의 Nano 난수의 효력
Nano 난수를 를 사용하는의 경제
그밖 전기도금을 한 금속을 위한 Nano 난수
PlasmaChem에 관하여

소개

은은 그것의 우수한 전기와 열 전도도 및 화학제품 안정성 때문에 스위치, 접촉, 신관 및 회로 차단기를 포함하여 많은 응용 그리고 제품을 위한 선호한 물자입니다.

왜 그리고 은은 어디에 이용됩니까?

은 코팅은 자주 사용합니다 전기 연결관, 스위치, 회로판 등등에 있는 구리의 전도도와 부식 안정성을 증가하기 위하여. 전기도금을 하기에서, 은은 발전과 배급 장비를 위해 산업 응용에서 1 차적으로, 특히 이용됩니다. 통신에서 조차, 자동의, 보석 및 칼붙이 은은 끝마무리 물자로 널리 이용됩니다.

산업 응용에 있는 은에 대한 문제

은의 주요 결점은 그것의 나쁜 기계적인 안정성과 높은 마찰 계수입니다. 착용과 마찰을 감소시키기 위하여 해결책을 찾아내는 것은 특별하은 관심사의 그러므로 입니다.

은에 흑연 Microparticles 추가

1970 년대에서 기업은 은 전기도금을 하는 프로세스에 있는 난수로 흑연 microparticles를 이용하기 위하여 시작되었습니다. 흑연은 마찰의 현저한 감소로 기계적인 안정성의 아무 증가도 등록될 수 있지 않았더라도, 이끌어 냅니다.

Nanoparticles를 사용하는 전기도금을 한 은의 향상된 기계적인 안정성

Gmbh 몇년 PlasmaChem 전에 난수로 전해질 도금에 nanoparticles를 사용해서 전기도금을 한 은의 기계적인 안정성 증가의 새로운 방법을 개발했습니다. 최고 결과는 특별히 pretreated 폭발 nanodiamonds가 채택될 때 달성되었습니다.

전기도금을 한 은에 대한 PlasmaChem의 Nano 난수의 효력

PlasmaChem의 nano 난수는 더 작은 금속 정자의 대형 (및 정자 사이 더 작은 거리)로 전기도금을 하는 프로세스 도중 (DiamoSilb®AlumoSilb®) 이끌어 냅니다. 결과적으로, 금속의 신축성 그리고 경도는 증가하고 마찰 계수는 줄입니다. 금속으로 지휘관 예금된 얻는 nanoparticles 양은 60%에 의하여 작 (0.1% 이하), 역시, 그들의 존재 감소 착용 마찰 계수 둘 다. 동시에, 은의 전기 전도도는 불변에 남아 있습니다.

이 비발한 nano 난수를 사용해서, 사람은 마지막 장치의 일생을 증가시킬 수 있습니다, 또는 2-3 시간까지 도금의 간격, 및 그러므로 은의 소비를 감소시키십시오.

Nano 난수를 를 사용하는의 경제

제품 품질의 개선은 새로운 생산 라인의 발달, 장비의 구입 및 제조 근수의 변경을 위한 추가 투자와 일반적으로 바싹 연결됩니다. nano 난수의 경우에, 중요한 투자는 필요하지 않습니다. nanoparticles 현탁액은 존재 전기도금을 하는 목욕에 직접 추가되어야 합니다. 이것은 또한 중소 기업이 대량 투자 없이 이 신기술로부터 혜택을 받는 것을 허용합니다.

그밖 전기도금을 한 금속을 위한 Nano 난수

전기도금을 하는 난수는 은 도금을 위해 뿐만 아니라 이용될 수 있습니다. 성공적인 결과는 금, 크롬, 니켈, 구리, 아연 및 다른 많은 금속을 위해 또한 달성되었습니다. PlasmaChem는 각각 금, 크롬 및 니켈 전해질을 위한 DiamoGold™, DiamoChrom™DiamoHard™-N의 생산을 발사했습니다.

PlasmaChem에 관하여

PlasmaChem는 매우 이산한 물자를 위한 PlasmaChem에 의해 개발된 새로운 플라스마 화학제품 방법으로 지원된 nano 입자 표면의 functionalization의 목적으로 nanopowders의 화학과 저온 플라스마 수정을 실행합니다. 이 접근은 향상하다 맞춤옷 속성을 가진 산업 nano 제품의 새로운 계열에 지도합니다.

근원: PlasmaChem

이 근원에 관하여 추가 정보를 위해, PlasmaChem를 방문하십시오.

Date Added: Apr 18, 2012 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 14. June 2013 09:31

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