Memoria Nana Desarrollada Por (MND) el Cristal de Asahi - Nueva Tecnología del Punto del Metal No Volátil

El Cristal Co., Ltd y un grupo de investigación llevado por Koyanagi, profesor de Asahi de la Escuela de la Ingeniería, Universidad de Tohoku, ha tenido éxito en desarrollar una nueva memoria no volátil, nombrada Memoria del Punto de Metal (MND) Nano. La memoria del MND se hace usando la tecnología de la deposición de la película del MND basada en las tecnologías de cerámica desarrolladas por el Cristal Co de Asahi. La película del MND se compone de los nanodots extremadamente densos del metal embutidos en una matriz que aísla. Se prevee que la memoria del MND reemplace memoria Flash existente en un futuro próximo.

La Demanda a una memoria no volátil del rendimiento de alta densidad y alto ha crecido rápidamente mientras que el mercado de los dispositivos de información movibles se ha desplegado estos últimos años, por lo tanto muchas clases de memorias no volátiles se han propuesto y se han investigado. Memoria Flash es la más ampliamente utilizada de las memorias no volátiles, debido a su costo de fabricación de alta densidad, inferior y operación estable y así sucesivamente. Sin Embargo, la reducción proporcional de la talla de célula de memoria Flash ha llegado a ser cada vez más difícil porque el espesor del óxido el hacer un túnel no se puede reducir proporcionalmente con la talla de célula debido a la necesidad de guardar la retención y la autonomía excelentes de la carga. Para resolver este problema, los nuevos tipos de células de memoria, tales como memoria del nanodot del silicio y memoria de MONOS, se han propuesto. Sin Embargo, estas memorias no tienen suficientemente de alta densidad de los sitios de la retención de la carga, por lo tanto la magnitud y la uniformidad de la ventana de la memoria no son suficiente. Profesor Koyanagi prestó la atención a la película del MND desarrollada por el Cristal Co. de Asahi para aplicarse a la nueva memoria no volátil y ha trabajado con los representantes técnicos De Cristal de Asahi en los dispositivos de ensayo. La fabricación de los dispositivos de ensayo fue realizada en el Laboratorio del Asunto de la Empresa de la Universidad de Tohoku.

24 de diciembre de 2004 Asentadoth

Date Added: Feb 23, 2004 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 12. June 2013 13:22

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this article?

Leave your feedback
Submit