Mémoire Nanoe de Point En Métal (MND) Non-volatile Développée Par la Glace d'Asahi - Technologie Neuve

La Glace d'Asahi Cie., Ltd et un organisme de recherche abouti par Koyanagi, professeur de Troisième cycle d'université du Bureau D'études, Université de Tohoku, ont réussi à développer une mémoire non-volatile neuve, nommée Mémoire de Point Metal (MND) Nano. La mémoire de DIVISION MULTINATIONALE est effectuée utilisant la technologie de dépôt du film de DIVISION MULTINATIONALE basée sur des technologies céramiques développées par la Glace Cie. d'Asahi. Le film de DIVISION MULTINATIONALE se compose de nanodots extrêmement denses en métal inclus dans une modification isolante. On s'attend à ce que la mémoire de DIVISION MULTINATIONALE remonte la mémoire flash existante dans un avenir proche.

La Demande à une mémoire non-volatile de performance à haute densité et haute s'est rapidement développée pendant que le marché des dispositifs mobiles de l'information a augmenté ces dernières années, pour cette raison beaucoup de genres de souvenirs non-volatiles ont été proposés et vérifiés. La Mémoire flash est la plus très utilisée des souvenirs non-volatiles, à cause de son coût de fabrication à haute densité et faible et fonctionnement stable et ainsi de suite. Cependant, la réduction de la taille de cellules de mémoire flash a difficile de plus en plus été parce que l'épaisseur d'oxyde de perçage d'un tunnel ne peut pas être réduite avec la taille de cellules due à la nécessité de maintenir l'excellentes retenue et résistance de charge. Afin de résoudre ce problème, les types neufs de cellules de mémoire, tels que la mémoire de nanodot de silicium et la mémoire de MONOS, ont été proposés. Cependant, ces souvenirs n'ont pas suffisamment à haute densité des sites de retenue de charge, pour cette raison l'importance et l'uniformité de l'hublot de mémoire ne sont pas assez. Professeur Koyanagi a prêté l'attention au film de DIVISION MULTINATIONALE développé par la Glace Cie. d'Asahi pour s'appliquer à la mémoire non-volatile neuve et a travaillé avec les ingénieurs De Verre d'Asahi sur les dispositifs d'essai. La fabrication des dispositifs d'essai a été effectuée au Laboratoire d'Affaires d'Entreprise de l'Université de Tohoku.

Posté le 24 décembre 2004th

Date Added: Feb 23, 2004 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 12. June 2013 13:05

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