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Heidelberg Instruments DWL 2000 Laser-Lithographie-System

Der DWL 2000 Laser-Lithographie-System ist eine schnelle und flexible, hochauflösende Muster-Generator für die Maskenherstellung und direktes Schreiben. Mit einer Schreibgeschwindigkeit von bis zu 200 x 200 mm 2 des Systems ist die perfekte Lösung für schnellen Aufbau von Masken und Wafern in MEMS, BioMEMS, Mikrooptik, ASICs, Mikrofluidik, Sensoren, CGHs, und alle anderen Anwendungen, die Mikrostrukturen erfordern.

Neben hochauflösenden 2D-Muster kann der Zustand der Technik des Systems auch komplexe 3D-Strukturen in dicke Photoresist mit einem einzigen Durchgang. Diese Funktion ermöglicht die schnelle und einfache Herstellung von maßgeschneiderten Micro-Optik mit refraktive oder diffraktive Elemente. Der Design-Prozess für diese Strukturen ist durch Umwandlung Software, die speziell für diese 3D-Anwendungen konzipiert unterstützt. Die Luftlager-basierte und Linearmotor angetrieben Stufen-System verbessert die Qualität der 3D-Strukturen durch die Beseitigung jeder mechanisch induzierte Schwingungen.

Der DWL 2000 nutzen können verschiedene Laser, die es ermöglicht, fast alle Photoresists aussetzen. Ein fester optischer Aufbau, eine zuverlässige Autofokus-System und eine hohe Präzision der Bühne garantieren die Qualität und die Positionsgenauigkeit des belichteten Strukturen. Eine hochauflösende Interferometer überwacht die Position der Bühne zu allen Zeiten. Um die Stabilität des Systems, ist es in einer Klimakammer gestellt, eine konstante Temperatur. Zusätzliche Software wird verwendet, um für alle verbleibenden Unterschiede in den mechanischen Strukturen oder die Umweltparameter zu kompensieren.

Last Update: 25. October 2011 07:48

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