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Sistema 2000 de la Litografía del Laser de los Instrumentos DWL de Heidelberg

El sistema 2000 de la litografía del laser de DWL es un generador de modelo rápido y flexible, de alta resolución para la máscara que hace y una escritura directa. Con un área de la escritura de hasta 200 x 200 milímetros2 el sistema es la solución perfecta para modelar rápido de máscaras y de fulminantes en MEMS, BioMEMS, la Óptica Micra, Asics, Fluídica Micra, Sensores, CGHs, y el resto de las aplicaciones que requieran microestructuras.

Además de los 2.os modelos de la alta resolución, la tecnología avanzada del sistema puede también crear las estructuras complejas 3D en la fotoprotección gruesa con un único paso. Esta característica activa la fabricación rápida y fácil de las micro-ópticas por encargo con los elementos refractivos o difrangentes. El proceso de diseño para estas estructuras es utilizado por el software de la conversión diseñado específicamente para estas aplicaciones 3D. El sistema impulsado por motor basado y lineal del aire-rodamiento del escenario mejora más lejos la calidad de las estructuras 3D eliminando cualquier vibración mecánicamente inducida.

El DWL 2000 puede utilizar diversos laseres, permitiendo exponer casi todas las fotoprotecciones. Un ajuste óptico fijo, un sistema auto seguro del enfoque y un sistema del escenario de la alta precisión garantizan la calidad y colocan la exactitud de las estructuras expuestas. Un interferómetro de la alta resolución vigila la posición del escenario siempre. Para asegurar la estabilidad del sistema, se coloca en un compartimiento de clima, proporcionando a una temperatura constante. El software Adicional se utiliza para compensar cualquier variación restante en las estructuras mecánicas o los parámetros ambientales.

Last Update: 11. January 2012 06:30

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