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Instruments Heidelberg DWL 2000 système de lithographie laser

Le DWL 2000 système de lithographie par laser est un moyen rapide et flexible, générateur à haute résolution pour motif de production de masques et de l'écriture directe. Avec une surface d'écriture de jusqu'à 200 x 200 mm 2, le système est la solution parfaite pour la structuration rapide des masques et des plaquettes dans les MEMS, BioMEMS, Micro Optics, ASIC, micro fluidique, Capteurs, CGHS, et toutes les autres applications qui nécessitent des microstructures.

En plus de haute résolution patrons 2D, l'état de la technologie de pointe du système peut également créer des structures complexes en 3D dans photorésine épais avec un seul passage. Cette fonction permet la fabrication rapide et facile de la coutume fait la micro-optique avec des éléments de réfraction ou de diffraction. Le processus de conception de ces structures est pris en charge par un logiciel de conversion spécialement conçus pour ces applications 3D. Le système de moteur à coussin d'air et linéaire basée étape conduit améliore encore la qualité des structures 3D en éliminant toute vibration mécanique induite.

Le DWL 2000 peuvent utiliser différents lasers, ce qui permet d'exposer presque tous les résines photosensibles. Une configuration optique fixe, un système automatique de mise au point et fiable d'un système de haute précision stade de garantir la qualité et la précision du positionnement des structures exposées. Un interféromètre haute résolution surveille la position de la scène à tout moment. Pour assurer la stabilité du système, il est placé dans une chambre climatique, assurant une température constante. Un logiciel supplémentaire est utilisée pour compenser toute variation résiduelle dans les structures mécaniques ou les paramètres environnementaux.

Last Update: 4. October 2011 00:55

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