DWL 2000 लेजर लिथोग्राफी प्रणाली मुखौटा बनाने और प्रत्यक्ष लेखन के लिए एक तेज और लचीला, उच्च संकल्प पैटर्न जनरेटर है. तक की एक लिखने के क्षेत्र के साथ 200 मिमी x 200 2 प्रणाली MEMS, BioMEMS, माइक्रो प्रकाशिकी, ASICs, माइक्रो Fluidics, सेंसर, सीजीएचएस, और अन्य सभी अनुप्रयोगों है कि microstructures की आवश्यकता होती है और मास्क और वेफर्स के तेजी से patterning के लिए सही समाधान है .
उच्च संकल्प 2 डी पैटर्न के अलावा, प्रणाली की अत्याधुनिक प्रौद्योगिकी के राज्य भी मोटी photoresist में जटिल 3D संरचनाओं के साथ एक एकल पास बना सकते हैं. यह सुविधा सक्षम बनाता है कस्टम त्वरित और आसान निर्माण अपवर्तक या diffractive तत्वों के साथ सूक्ष्म प्रकाशिकी बनाया. इन संरचनाओं के लिए डिजाइन की प्रक्रिया रूपांतरण विशेष रूप से इन 3 डी अनुप्रयोगों के लिए डिजाइन सॉफ्टवेयर के द्वारा समर्थित है. हवा असर आधारित और रैखिक मोटर चालित मंच प्रणाली आगे किसी भी यंत्रवत् प्रेरित कंपन को नष्ट करने के द्वारा 3D संरचनाओं की गुणवत्ता में सुधार.
DWL 2000 अलग लेज़रों के उपयोग, लगभग सभी photoresists को बेनकाब करने के लिए यह संभव बना सकते हैं. एक निश्चित ऑप्टिकल सेटअप, एक विश्वसनीय ऑटो फोकस प्रणाली और एक उच्च परिशुद्धता मंच प्रणाली गुणवत्ता और उजागर संरचनाओं की स्थिति सटीकता की गारंटी. एक उच्च संकल्प interferometer सभी समय मंच की स्थिति पर नज़र रखता है. प्रणाली की स्थिरता सुनिश्चित करने के लिए, यह एक जलवायु कक्ष में रखा गया है, एक लगातार तापमान प्रदान. अतिरिक्त सॉफ्टवेयर यांत्रिक संरचनाओं या पर्यावरणीय मानकों में किसी भी शेष बदलाव के लिए क्षतिपूर्ति करने के लिए प्रयोग किया जाता है.