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Sistema 2000 di Litografia del Laser degli Strumenti DWL di Heidelberg

Il sistema 2000 della litografia del laser di DWL è un generatore di sequenze veloce e flessibile, di alta risoluzione per la maschera che fa e una scrittura diretta. Con una superficie di scrittura di fino a 200 x 200 millimetri2 il sistema è la soluzione perfetta per il modello veloce delle maschere e dei wafer in MEMS, in BioMEMS, nelle Micro Ottica, in ASICs, nel Micro Fluidics, in Sensori, in CGHs ed in tutte le altre applicazioni che richiedono le microstrutture.

Oltre reticoli di alta risoluzione ai 2D, la tecnologia avanzata del sistema può anche creare le strutture complesse 3D in photoresist spesso con un singolo passaggio. Questa funzionalità permette al montaggio rapido e facile delle micro-ottica su ordine con gli elementi rifrangenti o a diffrazione. Il trattamento di progettazione per queste strutture è supportato dal software di conversione specificamente progettato per queste applicazioni 3D. Il sistema con comando a motore basato e lineare del aero-cuscinetto della fase più ulteriormente migliora la qualità delle strutture 3D eliminando tutte le vibrazioni meccanicamente indotte.

Il DWL 2000 può utilizzare i laser differenti, permettenti di esporre quasi tutti i photoresists. Un'impostazione ottica fissa, un sistema automatico affidabile del fuoco e un sistema della fase di alta precisione garantiscono la qualità e posizionano l'accuratezza delle strutture esposte. Un interferometro di alta risoluzione riflette sempre la posizione della fase. Per assicurare la stabilità del sistema, è collocato in una camera climatica, fornente una temperatura costante. Il software Supplementare è usato per compensare tutta la variazione restante nelle strutture meccaniche o nei parametri ambientali.

Last Update: 11. January 2012 06:19

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