Het systeem van de de laserlithografie van DWL 2000 is een generator van het snelle en flexibele, hoge resolutiepatroon voor masker het maken en het directe schrijven. Met schrijf gebied van zelfs 200 x 200 mm2 het systeem de perfecte oplossing voor snel het vormen van maskers en wafeltjes in MEMS, BioMEMS, Micro- Optica, ASICs, Micro- Fluïdica, Sensoren, CGHs, en alle andere toepassingen is die microstructuren vereisen.
Naast hoge resolutie 2D patronen, kan de overzichtstechnologie van het systeem tot complexe 3D structuren in dikke photoresist met één enkele pas ook leiden. Deze eigenschap laat snelle en gemakkelijke vervaardiging van naar maat gemaakte micro-optica met brekings of diffractive elementen toe. Het ontwerpproces voor deze structuren wordt door omzettingssoftware gesteund die specifiek voor deze 3D toepassingen wordt ontworpen. Het gebaseerde lucht-lager en systeem van het lineaire motor het gedreven stadium verbeteren verder de kwaliteit van de 3D structuren door om het even welke mechanisch veroorzaakte trillingen te elimineren.
DWL 2000 kan verschillende lasers gebruiken, makend het mogelijk om bijna alle photoresists bloot te stellen. Een vaste optische opstelling, een betrouwbaar autonadruksysteem en een systeem van het hoge precisiestadium waarborgen de kwaliteit en positienauwkeurigheid van de blootgestelde structuren. Een hoge resolutieinterferometer controleert de positie op elk moment van het stadium. Om de stabiliteit van het systeem te verzekeren, wordt het geplaatst in een klimaatkamer, die een constante temperatuur verstrekt. De Extra software wordt gebruikt om het even welke resterende variatie in de mechanische structuren of de milieuparameters te compenseren.