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Sistema 2000 da Litografia do Laser dos Instrumentos DWL de Heidelberg

O sistema 2000 da litografia do laser de DWL é um gerador de teste padrão rápido e flexível, de alta resolução para a máscara que faz e uma escrita directa. Com uma área da escrita de até 200 x 200 milímetros2 o sistema é a solução perfeita para a modelação rápida das máscaras e das bolachas em MEMS, em BioMEMS, em Micro Sistemas Óticos, em ASIC, na Micro Fluídica, nos Sensores, no CGHs, e nas todas aplicações restantes que exigem microestrutura.

Além do que testes padrões da alta resolução 2D, a tecnologia avançada do sistema pode igualmente criar as estruturas 3D complexas no fotoresistente grosso com uma única passagem. Esta característica permite a fabricação rápida e fácil de micro-sistemas óticos feito-à-medida com elementos refractive ou diffractive. O processo de projecto para estas estruturas é apoiado pelo software da conversão projetado especificamente para estas aplicações 3D. O sistema movido a motor baseado e linear do ar-rolamento da fase melhora mais a qualidade das estruturas 3D eliminando todas as vibrações mecanicamente induzidas.

O DWL 2000 pode utilizar os lasers diferentes, tornando o possível expr quase todos os fotoresistente. Uma instalação óptica fixa, um auto sistema seguro do foco e um sistema da fase da elevada precisão garantem a qualidade e posicionam a precisão das estruturas expor. Um interferómetro da alta resolução monitora a posição da fase em todas as vezes. Para assegurar a estabilidade do sistema, é colocado em uma câmara de clima, fornecendo uma temperatura constante. O software Adicional é usado para compensar toda a variação restante nas estruturas mecânicas ou nos parâmetros ambientais.

Last Update: 3. February 2012 16:32

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