Schneller Photoluminescence Kartograph RPM2000 von Nanometrics

Schneller Photoluminescence Kartograph RPM2000 von Nanometrics

Der Schnelle Photoluminescence Kartograph RPM2000 ist ein schnelles, Raumtemperatur photoluminescence (PL) Einteilungssystem, das für Gebrauch in R+D-, Produktions- und Qualitätskontrollumgebungen geeignet ist.

Das RPM2000 ist speziell konstruiert worden, um ganze Wafer PL-Karten in einem bloßen Bruch der Zeit zu erreichen, die vorher mit dieser Sortierung des Maßes verbunden ist und die Fähigkeit gegeben, Wafers zwischen Arbeitsläufen zu messen und einzuschätzen. Der Hauptnutzen ist, dass schnelles Feed-back und Abhilfemaßnahme eingeführt werden können, wenn Waferparameter aus der Bedingung heraus sind und vergeudete Arbeitsläufe, so Einsparungszeit und Kosten vermeiden. Darüber hinaus macht die Drehzahl des Maßes ankommende Inspektion und Qualifikation von eingekauften Wafers ein schnelles und eine leichte Aufgabe.

Indem sie eine eindeutige Auslegung verwendet, erzielt die Anlage super schnelle abbildende Drehzahlen ohne zu kompromittieren Spektral und Ortsauflösung. Zum Beispiel kann ein schneller Check integrierten PL-Signals auf einem 2-Zoll- Wafer bei 1mm Ortsauflösung in nur 19 Sekunden durchgeführt werden. Die ist eine Karte mit 2026 Punkten in weniger als 20 Sekunden. Volles Spektral, an der gleichen Ortsauflösung, Höchststellung gebend, Höchstintensität, FWHM und integrierte Intensität abbildend, würde nur 25 Sekunden nehmen. In weniger als 100 Sekunden kann das RPM2000 die integrierten Karten eines 2-Zoll- Wafers bei 0.2mm Ortsauflösung produzieren, insgesamt über 50.000 Punkten oder Spektralkarten bei 0.5mm Ortsauflösung, die 8.000 Punkte gibt.

Das RPM2000 kann die Qualität PL auch zur Verfügung stellen des wahren Bildes, die an den hohen räumlichen und Spektralauflösungen abbildet und die Fähigkeit geben, Hunderte von den Tausenden Punkten auf Wafers bis zu 150mm Durchmesser zu prüfen: Abzubilden ist möglich, bei 0.1mm Ortsauflösung auf Wafers bis zu 100mm Durchmesser und 0.2mm auf Wafers bis zu 150mm. Für 150mm Wafers würde eine 1mm Ortsauflösung integrierte Karte nur 56 Sekunden nehmen und eine Ortsauflösung der Bildqualität 0.2mm integrierte Karte, entsprechend über 455.800 Punkten würde nehmen nur 8 Minuten.

Merkmale:

  • 0,1 mm Maximumauflösung
  • 350 - 2600 nm Spektralbereich
  • automatisiertes Waferhandhaben (mit Rohrleitungs-Modus)
  • geeignet für 2" - 6" Wafer
  • kurze Maßzeit (z.B. Maß des integrierten PL-Signals von 2" Wafer mit 1 mm Auflösung in 19 Sekunden)
  • bis 3 Laser, 3 Gitter und 2 Detektoren können verwendetes simultanes sein
  • langer Arbeitsabstand (verringert das Absinken der Maßqualität, wenn der Wafer eine Wölbung hat)
  • unterschiedlicher Laser 15 (266 - 1064 nm)
  • 10 verschiedene Gitter
  • 13 verschiedene Detektoren

Last Update: 3. June 2015 10:04

Other Equipment by this Supplier