Rilevamento Rapido di Fotoluminescenza RPM2000 da Nanometrics

Rilevamento Rapido di Fotoluminescenza RPM2000 da Nanometrics

Il Rilevamento Rapido di Fotoluminescenza RPM2000 è un sistema di temperatura ambiente e veloce (PL) di fotoluminescenza di mappatura adatto ad uso negli ambienti di R+D, di produzione e di controllo di qualità.

Il RPM2000 è stato destinato specificamente per ottenere le intere mappe di PL del wafer in una mera frazione del tempo precedentemente connesso con questo ordinamento della misura, dando la capacità di misurare e valutare i wafer fra le esecuzioni di produzione. Il vantaggio primario è che il feedback rapido e l'atto correttivo possono essere applicati se i parametri del wafer sono da specifica, evitante le esecuzioni di produzione, così il tempo di risparmio ed i costi sprecati. Inoltre, la velocità della misura fa l'ispezione e la qualificazione ricevute dei wafer comprati un compito rapido e facile.

Usando una progettazione unica, il sistema raggiunge le velocità di mappatura veloci eccellenti senza compromettere la risoluzione spettrale e spaziale. Per esempio, un assegno rapido del segnale integrato di PL su un wafer a 2 pollici a risoluzione spaziale di 1mm può essere eseguito in soltanto 19 secondi. Quella è una mappa di 2026 punti in meno di 20 secondi. Spettrale Pieno mappando, alla stessa risoluzione spaziale, dante la posizione di punta, l'intensità di punta, FWHM e l'intensità integrata richiederebbe soltanto 25 secondi. Nei 100 secondi di sotto, il RPM2000 può produrre le mappe integrate di un wafer a 2 pollici a risoluzione spaziale di 0.2mm, complessivamente oltre 50.000 punti, o le mappe spettrali a risoluzione spaziale di 0.5mm che dà 8.000 punti.

Il RPM2000 può anche fornire la qualità PL di vera immagine che mappa alle alte risoluzioni spaziali e spettrali, danti la capacità di esaminare le centinaia di migliaia di punti sui wafer fino al diametro di 150mm: È possibile da mappare a risoluzione spaziale di 0.1mm sui wafer fino al diametro di 100mm e a 0.2mm sui wafer fino ad un massimo di 150mm. Per i wafer di 150mm una risoluzione spaziale di 1mm mappa integrata richiederebbe soltanto 56 secondi e una qualità 0.2mm che di immagine la risoluzione spaziale ha integrato la mappa, corrispondente oltre a 455.800 punti richiederebbe soltanto 8 minuti.

Funzionalità:

  • 0,1 millimetri di risoluzione di massimo
  • ampiezza dello spettro di 2600 - di 350 nanometro
  • manipolazione automatizzata del wafer (con il Modo della Conduttura)
  • adatto a 2" - 6" wafer
  • breve tempo di misura (per esempio misura del segnale integrato di PL di un 2" wafer con 1 millimetro di risoluzione in 19 secondi)
  • fino a 3 laser, 3 grate e 2 rivelatori possono essere simultaneo usato
  • distanza di funzionamento lunga (diminuisce il calo nella qualità di misura se il wafer ha una distorsione)
  • 15 laser differente (266 - 1064 nanometro)
  • 10 grate differenti
  • 13 rivelatori differenti

Last Update: 3. June 2015 10:04

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