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Aviza の技術の Celsior の fxP の単一のウエファー ALD システム

Celsior™fxP は Aviza のの以下の 300 mm 生産 90 nm ノードのために目標とされる進められた世代別単一のウエファー ALD システムです。 Celsior の fxP は R & D のための複雑な製造業の条件そして柔軟性および短いサイクル時間に合うために拡大された革命的な機能を提供します。

プラットホーム

Celsior の fxP は高められたスループットおよび生産性のための 5 つまでのプロセスモジュールをサポートすることができます。 システムは同じプラットホームの 200mm および/または 300mm のウエファーを処理する柔軟性を提供する 200 mm/300 mm 橋であるように設計されています。

生産証明されたパフォーマンス

Celsior の fxP の主要特点は所有権の低価格に終って増加されたスループットを提供する効率的に設計され、革新的な区域です (CoO)。 他の一義的な機能は下記のものを含んでいます:

  • 反作用ボリュームを減らし、無関係を除去するのにコンピュータによって模倣されるガスの流れの原動力を利用する小さい反作用区域はより高い収穫に終って欠陥の形成のために使用できる領域をスペース減らして停止します
  • 特許を取られたシャワー・ヘッドデザインは急流、 300 mm ウエファーを渡る 1つ% 以下の厚さの均等性の条件を満たすことができる均一ガス配達を可能にします
  • より高いシステム稼働時間およびアベイラビリティにシステム変換する粗制御を含んでいる信頼できる、実証済みの中央転送のハブ、
  • 未来の容量または新しい材料および加工技術を追加するための継ぎ目が無いプロセス区域の付加の近くの許可による Extendibility そして柔軟性

90 nm を目標とする優秀なプロセス結果以下に:

  • 高度のドラムのコンデンサーの誘電体 AlO23/HfSiOx
  • 高k ゲートの誘電体 HfO/HfSiOx/HfTiOx2
  • フラッシュ・メモリの誘電体 AlO23/HfSiOx
  • 低温 SiO2
  • 低温の錫
  • ルテニウム

Last Update: 11. January 2012 08:01

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