Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D

Aviza Technology Celsior FXP Single Wafer ALD System

Celsior ™ FXP is geavanceerde generatie Aviza single wafer ALD-systeem gericht op 300-mm productie in de 90-nm node en lager. Celsior FXP biedt uitgebreide revolutionaire mogelijkheden om complexe productie-eisen te voldoen en de flexibiliteit en korte cyclustijden voor R & D.

Platform

Celsior FXP is in staat om met ondersteuning voor maximum 5 proces-modules voor een betere doorvoer en productiviteit. Het systeem is ontworpen om een ​​brug 200-mm/300-mm bieden de flexibiliteit om 200mm-en / of 300mm wafers proces op hetzelfde platform te zijn.

Productie-bewezen prestaties

Een belangrijk kenmerk van Celsior FXP is zijn efficiënt ontworpen en innovatieve kamer, die verhoogde doorvoer resulteert in lagere cost of ownership (COO) biedt. Andere unieke eigenschappen zijn:

  • Kleine reactiekamer gebruik te maken van de computer gemodelleerd gasstroom dynamiek om de reactie te volume te verminderen en overbodige verwijder de spaties-het verminderen van de gebieden die beschikbaar zijn voor de vorming defect resulterend in een hogere opbrengst sterven
  • Gepatenteerd douchekop ontwerp maakt het mogelijk een snelle, uniforme levering van gas die in staat is te voldoen aan minder dan 1 procent dikte uniformiteit eisen over een 300-mm wafers
  • Betrouwbaar, veld bewezen centrale overdracht hub, die robuust systeem-vertalen in een hogere uptime van het systeem en de beschikbaarheid omvat
  • Uitbreidbaarheid en flexibiliteit doordat vrijwel naadloze proceskamer aanvullingen voor het toevoegen van de toekomstige capaciteit of door nieuw materiaal en procestechnologie

Superieure proces resulteert gericht op 90 nm en onder:

  • Geavanceerde DRAM Condensator Diëlektrica Al 2 O 3 / HfSiOx
  • High-k Gate Diëlektrica HfO 2 / HfSiOx / HfTiOx
  • Flash-geheugen Diëlektrica Al 2 O 3 / HfSiOx
  • Lage Temperatuur SiO 2
  • Lage Temperatuur TiN
  • Ruthenium

Last Update: 10. October 2011 12:18

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this equipment listing?

Leave your feedback
Submit
Other Equipment