Celsior™fxP é sistema avançado da bolacha ALD da geração de Aviza único visado para 300 milímetros de produção no nó de 90 nanômetro e abaixo. O fxP de Celsior oferece características revolucionárias expandidas encontrar exigências complexas da fabricação e os tempos do flexibilidade e os curtos de ciclo para o R&D.
Plataforma
O fxP de Celsior é capaz de apoiar até 5 módulos do processo para a produção e a produtividade aumentadas. O sistema é projectado ser uma ponte de 200 mm/300-mm que oferece a flexibilidade processar bolachas de 200mm e/ou de 300mm na mesma plataforma.
desempenho Produção-Provado
Uma característica chave do fxP de Celsior é sua câmara eficientemente projetada e inovativa, que oferece a produção aumentada tendo por resultado mais barato da posse (CoO). Outras características originais incluem:
- A câmara Pequena da reacção que utiliza a dinâmica modelada computador do fluxo do gás para reduzir o volume da reacção e para remover estranho espaço-reduzindo as áreas disponíveis para a formação do defeito tendo por resultado mais alto morre rendimentos
- O projecto Patenteado do showerhead permite o rapid, a entrega uniforme do gás que é capaz de cumprir exigências de menos de 1 uniformidade da espessura dos por cento através de uma bolacha de 300 milímetros
- Seguro, cubo central provado campo de transferência, que inclui o controle robusto quetraduz em um uptime e em uma disponibilidade mais altos do sistema
- Extendibility e Flexibilidade permitindo perto das adições sem emenda da câmara do processo para adicionar a capacidade futura ou material e tecnologia de processamento novos
O processo Superior resulta visando 90 nanômetro e abaixo:
- Dieléctricos Avançados AlO/HfSiOx23 do Capacitor da GOLE
- Dieléctricos Altos-k HfO/HfSiOx/HfTiOx da Porta2
- Dieléctricos AlO/23HfSiOx da Memória Flash
- Baixa Temperatura SiO2
- Estanho da Baixa Temperatura
- Ruténio