Site Sponsors
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD

Sokudo Photolithographie Duo Coater / Développeur

SOKUDO DUO est un développeur innovant photolithographie coucheuse / qui intègre le premier système de double voie. Avec le traitement des plaquettes à double flux, le duo SOKUDO augmente considérablement le débit à 250-300 plaquettes par heure (WPH), selon la configuration du système, tout en réduisant considérablement l'empreinte du système. Le design améliore la sortie SOKUDO DUO plaquette par unité de surface de près de 40% par rapport aux systèmes de piste précédente.

Exécution de deux lignes processus parallèle améliore considérablement le débit plaquette. Comme la charge est répartie entre deux lignes distinctes, le duo SOKUDO contribue également à la manipulation des plaquettes plus grande fiabilité de la robotique, car elle permet de réduire les vitesses de transfert de plaquettes sans compromettre le débit plaquette.

Le concept à double flux permet d'exécuter chaque ligne de traitement de plaquettes de façon indépendante. L'entretien peut être effectué alors que le système fonctionne de production, réduisant considérablement les temps d'arrêt du système. La cellule de l'ensemble plaquette lithographie production, la productivité est optimisée en gardant le processus de pelage / développer courir afin que le temps d'exposition coûteuse photolithographie scanneur n'est pas gaspillé.

Le système de double processus de ligne est une conception de la plate-forme compacte qui réduit considérablement l'empreinte. Différentes configurations de système peut être adapté pour correspondre à couche spécifique / développer des applications, pour délivrer un wafer optimisé pour la disposition salle blanche.

SOKUDO long cultivées savoir-faire technique dans le manteau, de développer et de technologies de pâtisseries ont été pleinement intégrés dans cette nouvelle plateforme SOKUDO DUO pour soutenir les technologies de pointe pour le processus de lithographie exigences de demain patterning avancés. Le système permet de lithographie par immersion double patterning traitement et plaquette roman fonctionnalités des solutions de nettoyage pour fournir la meilleure pointe de lithographie sur galette des résultats avec un rendement élevé.

Last Update: 6. October 2011 23:36

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this equipment listing?

Leave your feedback
Submit
Other Equipment