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DCA 儀器 L400 UHV 飛濺系統

L400 UHV 磁控管飛濺系統為連續飛濺設計與可移動的磁控管。 與轉動星球基體階段的常規連續飛濺系統提供有限基體處理設施。 在這個 L400 設計基體階段固定式,并且磁控管依順序被移動存款多層。 這允許基體屏蔽與可移動的快門, RF 和 DC 基體偏心、楔子證言和方位角基體循環 - 功能的使用不可用在其他飛濺系統。

L400 證言房間有快速存取的有差別地抽的主要耳輪緣到磁控管。 磁控管移動和索引是充分地多層薄膜的計算機控制的准許的處方基於證言。

使用 RF 或 DC 飛濺,這個系統可以為飛濺金屬、裝绝緣體工和磁性材料使用。 最大目標範圍是 4" 直徑。

Last Update: 23. January 2012 02:52

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