Sistema Atómico de la Deposición de la Capa de Cambridge NanoTech Fiji F200

Sistema Atómico de la Deposición de la Capa de Cambridge NanoTech Fiji F200

La serie de Cambridge NanoTech Fiji F200 es nuestro sistema más avanzado de la investigación y desarrollo de ALD. La Fiji es un sistema de alto vacío modular de ALD que acomoda una amplia gama de modos de la deposición usando una configuración de sistema flexible y configuraciones múltiples de precursores y de gases del plasma. El resultado es una plataforma de la nueva generación ALD capaz de hacer la deposición térmica así como plasma-aumentada.

Cambridge NanoTech ha combinado su experiencia de cabeza de ALD con análisis De Cómputo avanzados de la Dinámica de Fluidos para optimizar el reactor de Fiji F200 ALD, el calefactor y la geometría del desvío. La geometría del reactor del hyperboloid combinada con el calefactor del substrato del paraboloide crea un precursor laminar y un flujo radical generado plasma alejada. Este tipo de diseño que usted puede conseguir solamente de expertos bien informados de ALD, optimiza uniformidad de la deposición y disminuye la duración de ciclo y el uso del precursor.

La Fiji 200 viene en varias diversas configuraciones incluyendo el Bloqueo Doble del Compartimiento y de la Carga. Cada compartimiento se puede configurar con hasta seis líneas del precursor del calefactor y 5 líneas de gas del plasma, ofreciendo la adaptabilidad experimental más grande de una huella compacta. Por Favor conozcamos cuáles son sus necesidades de ALD y podemos configurar un sistema de Fiji que correcto para usted.

Last Update: 3. June 2015 10:06

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