Sistema Atómico de la Deposición de la Capa de TFS 500 de Beneq

El TFS 500 es un sistema de ALD diseñado para el uso en aplicaciones de la capa de la película fina. La unidad incorpora diseño delantero del borde y las soluciones técnicas que activen capas y resultados de la calidad superior. En Beneq, nos hemos acercado a diseño de la herramienta de ALD con una mente abierta y un ánimo innovador. Nuestra meta es desarrollar nuevas aplicaciones y oportunidades de asunto combinando experiencia con la invención. El TFS 500, nuestro modelo inicial del reactor, ha probado su caso como herramienta versátil adaptable a la investigación profundizada de la película fina y al procesamiento por lotes robusto.

El TFS 500 puede manejar varios tipos de substratos; los fulminantes, los objetos planares, los polvos y los materiales a granel porosos, así como 3D complejo se opone con las altas características de la relación de aspecto. Puede ser equipada más lejos de un bloqueo manual de la carga para las capacidades de tramitación crecientes del fulminante. Diversos tipos de compartimientos de la reacción se pueden ajustar fácilmente dentro del compartimiento de vacío, que a su vez activa la optimización de cada compartimiento de la reacción para cada aplicación del cliente. El TFS 500 es una herramienta ideal para los ambientes del multi-proyecto.

El TFS 500 cubre los requisitos rigurosos de la confiabilidad industrial y la necesidad de la adaptabilidad de las operaciones del R&D. Se emplea una estructura robusta y modular y cumple todos los requisitos necesarios de la ingeniería y de seguro. Los componentes de proceso son artículos disponibles, así asegurando disponibilidad de los recambios. Todos Los contenedores del precursor se pueden cambiar fácilmente, a corto plazo. La disposición del precursor incluye los gases, los líquidos y los materiales sólidos. Para la adaptabilidad completa en la selección del precursor, hemos incluido además una opción caliente de la fuente de 500 °C. La configuración de la fuente de un cliente puede por lo tanto variar de una condición atmosférica mínima de dos, a una batería de 5 gases, de 4 líquidos y de 4 fuentes calientes.

Características

Funcionamiento que cuenta

  • Duración de ciclo De Proceso predominante menos de 2 segundos. En muchos casos, menos de 1 segundo (con la variación de la uniformidad el < ±1% para, e.g., AlO).2 3
  • Flexibilidad Caliente de la fuente, hasta 500 ajustes calientes de la fuente del °C como opciones estándar.
  • Diseño Específico A La Aplicación del compartimiento de la reacción con funcionamiento superior de la capa.
  • Ambo dirija y el plasma alejada ALD como opciones estándar.

Adaptabilidad Operativa - modular y flexible

Si usted quiere aplicar una película fina a una o varia obleas de silicio, o a un tratamiento por lotes de dos mil monedas de plata, el TFS 500 es su mejor opción. Nuestras personas acreditadas de ALD pueden acomodar sus necesidades específicas en diseño del equipo, la operación y funciones del soporte.

  • Varios diversos compartimientos de la reacción disponibles para, e.g., fulminante, fulminante múltiple, 3D y substratos del polvo.
  • El diseño modular Completo permite el cambio fácil de los compartimientos, de las fuentes y del aislante de tubo de la reacción.
  • La Alta deposición ejerce presión sobre posible para los substratos grandes de la superficie.
  • Bloqueo de la Carga con la operación manual disponible para el cambio rápido del fulminante del substrato.
  • compartimiento de la reacción de la Caliente-Pared para la temperatura uniforme del substrato y prevenir la condensación del precursor y reacciones secundarias.
  • compartimiento de vacío de la Frío-Pared para la calefacción y el enfriamiento rápidos.
  • El asiento Auxiliar vira hacia el lado de babor en el compartimiento de vacío para el plasma, los diagnósticos "in-situ" Etc.
  • Recinto Limpio compatible, incluyendo el ensamblaje de la pared del sitio limpio.

Diseño Único - facilidad de empleo

El TFS 500 incorpora una pequeña huella y un diseño convivial. Todas Las operaciones de la capa y de mando de proceso se sitúan convenientemente encima de la cintura, haciendo el TFS 500 un placer de trabajar con. El cargamento de la fuente del Precursor y el cambio es simples, rápidamente y seguro. Todas Las funciones son manejadas por mando de lógica programable (PLC), incluyendo la registración del interfaz del Usuario de PC y de datos.

Last Update: 11. January 2012 04:53

Ask A Question

Do you have a question you'd like to ask the manufacturer of this equipment or can you provide feedback regarding your use of this equipment?

Leave your feedback
Submit
Other Equipment by this Supplier
Other Equipment