TFS 500 het AtoomSysteem van het Deposito van de Laag van Beneq

TFS 500 is een systeem ALD dat voor gebruik in de toepassingen van de dunne filmdeklaag wordt ontworpen. De eenheid neemt voorrandontwerp en technische oplossingen op dat superieure kwaliteitsdeklagen toelaten en vloeit voort. In Beneq, zijn wij ALD hulpmiddelontwerp met een open mening en een innovatieve geest genaderd. Ons doel is nieuwe toepassingen en bedrijfskansen te ontwikkelen door ervaring met uitvinding te combineren. TFS 500, ons aanvankelijk reactormodel, heeft zijn geval als veelzijdig hulpmiddel aanpasbaar aan zowel diepgaand dunne filmonderzoek als robuuste batch-verwerking bewezen.

TFS 500 kan verscheidene types van substraten behandelen; wafeltjes, vlakvoorwerpen, poeder en poreuze bulkmaterialen, evenals complexe 3D voorwerpen met hoge aspectverhouding eigenschappen. Het kan verder met een manueel in werking gesteld ladingsslot voor de verhoogde mogelijkheden van de wafeltjeverwerking worden uitgerust. De Verschillende types van reactiekamers kunnen gemakkelijk binnen de luchtledige kamer worden gepast, die beurtelings het optimaliseren van elke reactiekamer voor elke klantentoepassing toelaat. TFS 500 is een ideaal hulpmiddel voor multi-projectmilieu's.

TFS 500 voldoet zowel aan de strenge vereisten van industriële betrouwbaarheid als de behoefte aan flexibiliteit van de verrichtingen van R&D. Het wordt voortgebouwd op een robuuste en modulaire structuur en voldoet aan alle noodzakelijke techniek en veiligheidsvoorschriften. De procescomponenten zijn overal verkrijgbare artikelen, waarbij vervangstukkenbeschikbaarheid wordt verzekerd. Alle voorlopercontainers kunnen gemakkelijk worden veranderd, op korte termijn. De voorloperbereidheid omvat gassen, vloeistoffen en stevige materialen. Voor volledige flexibiliteit in voorloperselectie, hebben wij bovendien een 500 °C hete bronoptie omvat. De van een BRON klant configuratie kan daarom van een minimum van twee, aan een batterij van 5 gassen variëren, 4 vloeistoffen en 4 hete bronnen.

Eigenschappen

Prestaties die tellen

  • De cyclustijd van het Proces hoofdzakelijk minder dan 2 seconden. In veel gevallen, minder dan 1 tweede (met uniformiteitsvariatie < ±1% voor, b.v., AlO).2 3
  • Hete bronveelzijdigheid, tot 500 °C hete bronopstellingen als standaardopties.
  • Application-specific ontwerp van de reactiekamer met superieure deklaagprestaties.
  • Zowel direct als ver plasma ALD als standaardopties.

Operationele modulair en flexibele flexibiliteit -

Of u een dunne film op één wilt toepassen of verscheidene siliciumwafeltjes, of aan een partij van twee duizend zilveren muntstukken, TFS 500 is uw beste keus. Ons geaccrediteerd team ALD kan uw specifieke behoeften in apparatuur ontwerp, verrichtings en steunfuncties aanpassen.

  • Verscheidene verschillende reactiekamers beschikbaar voor, b.v., wafeltje, veelvoudig wafeltje, 3D en poedersubstraten.
  • Het Uitvoerige modulaire ontwerp staat voor gemakkelijke verandering van reactiekamers, bronnen en buizenstelsel toe.
  • Hoge depositodruk mogelijk voor grote oppervlaktesubstraten.
  • Het slot van de Lading met handverrichting beschikbaar voor de snelle verandering van het substraatwafeltje.
  • De reactiekamer van de heet-Muur voor eenvormige substraattemperatuur en om voorlopercondensatie en secundaire reacties te verhinderen.
  • De luchtledige kamer van de koud-Muur voor het snelle verwarmen en het koelen.
  • Hulp ingangshavens in luchtledige kamer voor plasma, diagnostiek in situ enz.
  • Clean-room compatibel systeem, met inbegrip van de schone assemblage van de ruimtemuur.

Uniek ontwerp - handigheid

TFS 500 neemt een kleine voetafdruk en een gebruikersvriendelijk ontwerp op. Alle deklaag en procesbeheersingsverrichtingen zijn gemakshalve gesitueerd boven taille, makend tot TFS 500 een genoegen om te werken met. De van de Bron Voorloper lading en veranderen zijn eenvoudig, snel en betrouwbaar. Alle functies worden beheerd door programmeerbare logicacontrole (PLC), met inbegrip van het gebruikersinterface van PC en gegevensregistreren.

Last Update: 11. January 2012 04:37

Ask A Question

Do you have a question you'd like to ask the manufacturer of this equipment or can you provide feedback regarding your use of this equipment?

Leave your feedback
Submit
Other Equipment by this Supplier
Other Equipment