Eulithas nanoimprint Schablonen werden mit Elektronenstrahl oder seiner eindeutigen EUV-Lithographie-Technologie hergestellt. Standardschablonen umfassen 35 nm-halbabstand lineare Gitter und 53 nm-halbabstand Punktreihen, die mit dank der hervorragenden Qualität die EUV-Berührungsfähigkeit gemacht werden. Schablonen Nach Maß werden entsprechend Abnehmerbedingungen mit der geeignetsten Technologiewahl gemacht: EUV-Technologie aktiviert Produktion von hochauflösenden periodischen Zellen (sub-100nm) über großen Gebieten, während Eträger für die Herstellung von willkürlichen Mustern verwendet wird.
Anwendungen von Eulithas Schablonen umfassen Verfahrensentwicklung und Überprüfung, Nano-optik, SERS-Substratflächen, kopierte Magnetträger, Mikroskopkalibrierung, Nano-elektronik und templated Selbstbau. Bringen Sie uns mit Ihrem Bedarf am Sachverständigengutachten von unserem weltberühmten wissenschaftlichen Personal in Kontakt.
Hauptmerkmale:
- Auflösung unten bis 20 nm
- Anti-Beitritt Beschichtung (wahlweise)
- Schnelle Umlaufszeit von 4-6 Wochen
- Kombinationen des Bereiches/Auflösung (z.B. 35 nm über 1cm)2