Schablonen Eulitha Nanoimprint

Eulithas nanoimprint Schablonen werden mit Elektronenstrahl oder seiner eindeutigen EUV-Lithographie-Technologie hergestellt. Standardschablonen umfassen 35 nm-halbabstand lineare Gitter und 53 nm-halbabstand Punktreihen, die mit dank der hervorragenden Qualität die EUV-Berührungsfähigkeit gemacht werden. Schablonen Nach Maß werden entsprechend Abnehmerbedingungen mit der geeignetsten Technologiewahl gemacht: EUV-Technologie aktiviert Produktion von hochauflösenden periodischen Zellen (sub-100nm) über großen Gebieten, während Eträger für die Herstellung von willkürlichen Mustern verwendet wird.

Anwendungen von Eulithas Schablonen umfassen Verfahrensentwicklung und Überprüfung, Nano-optik, SERS-Substratflächen, kopierte Magnetträger, Mikroskopkalibrierung, Nano-elektronik und templated Selbstbau. Bringen Sie uns mit Ihrem Bedarf am Sachverständigengutachten von unserem weltberühmten wissenschaftlichen Personal in Kontakt.

Hauptmerkmale:

  • Auflösung unten bis 20 nm
  • Anti-Beitritt Beschichtung (wahlweise)
  • Schnelle Umlaufszeit von 4-6 Wochen
  • Kombinationen des Bereiches/Auflösung (z.B. 35 nm über 1cm)2

Last Update: 11. January 2012 07:59

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