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Eulitha nanoimpresión plantillas

Plantillas Eulitha de nanoimpresión se fabrican con haz de electrones o de su exclusiva tecnología de litografía EUV. Plantillas estándar incluyen 35 nm de paso de media rejillas lineales y 53 nm de paso de media matrices de puntos, los cuales se hacen con una calidad excepcional gracias a la capacidad de exposición EUV. Plantillas de hecho se hacen de acuerdo a las especificaciones del cliente con la opción de tecnología más adecuada: EUV tecnología permite la producción de alta resolución de estructuras periódicas (sub-100nm) en grandes áreas, mientras que por haz de electrones se utiliza para hacer patrones arbitrarios.

Aplicaciones de las plantillas Eulitha de incluir el desarrollo de procesos y la verificación, nano-óptica, sustratos SERS, los medios de comunicación patrones magnéticos, calibración microscopio, la nanoelectrónica y la plantilla de auto-ensamblaje. En contacto con nosotros con sus necesidades de asesoramiento de expertos de nuestro mundialmente conocido personal científico.

Características principales:

  • Resolución de hasta 20 nm
  • Anti-adherencia del recubrimiento (opcional)
  • Vuelta rápida alrededor de tiempo de 4-6 semanas
  • Área / resolución de las combinaciones (por ejemplo, 35 nm más de 1 cm 2)

Last Update: 5. October 2011 21:28

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