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Eulitha纳米压印模板

Eulitha的压印模板制造与电子束或以其独特的EUV光刻技术。标准模板包括35纳米半间距线性光栅和53纳米半间距点阵列,这两者都是由于EUV曝光能力与卓越的品质,自定义模板是根据客户的规格与最合适的技术选择: EUV技术使生产的周期性结构,大面积的高分辨率(次100奈米),而电子束任意模式中使用。

Eulitha的应用程序的模板包括SERS衬底 ​​,工艺开发和验证,纳米光学,磁介质图案,显微镜校准,纳米电子学和模板的自组装。联系我们从我们的世界知名的科研人员与专家咨询您的需求。

主要特点:

  • 决议下降到20纳米
  • 抗粘附涂层(可选)
  • 4-6周的时间快速转身
  • 区/分辨率组合(例如35岁以上1厘米2纳米)

Last Update: 26. October 2011 01:20

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