Eulitha的压印模板制造与电子束或以其独特的EUV光刻技术。标准模板包括35纳米半间距线性光栅和53纳米半间距点阵列，这两者都是由于EUV曝光能力与卓越的品质，自定义模板是根据客户的规格与最合适的技术选择： EUV技术使生产的周期性结构，大面积的高分辨率（次100奈米），而电子束任意模式中使用。
Eulitha的应用程序的模板包括SERS衬底 ，工艺开发和验证，纳米光学，磁介质图案，显微镜校准，纳米电子学和模板的自组装。联系我们从我们的世界知名的科研人员与专家咨询您的需求。
主要特点：
- 决议下降到20纳米
- 抗粘附涂层（可选）
- 4-6周的时间快速转身
- 区/分辨率组合（例如35岁以上1厘米2纳米）