Eulitha Nanoimprint 模板

Eulitha 的 nanoimprint 模板製造與電子束或其唯一 EUV 石版印刷技術。 標準模板包括 35 毫微米半間距線性濾柵和 53 個毫微米半間距小點列陣,其中之二用例外質量由於做 EUV 風險功能。 定製的模板根據與最適當的技術選擇的客戶說明做: EUV 技術啟用高分辨率定期結構的生產 (子100nm) 在大區,而 e 射線為做任意模式使用。

Eulitha 的模板的應用包括工藝過程開發和核實、納諾光學、 SERS 基體、被仿造的磁介質、顯微鏡定標、納諾電子和 templated 自集合。 與我們聯繫與您的對專家意見的需要從我們舉世聞名的科學人員。

關鍵功能:

  • 下來解決方法到 20 毫微米
  • 反黏附力塗層 (選項)
  • 4-6 個星期快速週轉時間
  • 區/解決方法組合 (即 35 毫微米 1cm)2

Last Update: 23. January 2012 03:54

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