Morphologi G3 從 Malvern 的顆粒大小和微粒形狀分析程序

Morphologi G3 從 Malvern 的顆粒大小和微粒形狀分析程序

是您尋找:

  • 從範例散射的一個通過充分地自動化的和靈活的解決方法對數據分析?
  • 在處理期間,您的微粒更加詳細的知識和他們如何正常運行?
  • 對您從發展的屬於顆粒的材料的更好的瞭解通過對生產?
  • 統計上重大的優質顆粒大小和形狀信息在一個評定與最小的用戶干預?
  • 為質量故意地和帕特的一套新工具?
  • 自動化您的顯微學的節省額時間和人工運作?
  • 驗證其他微粒大小技術的工具?

新的 Morphologi G3 自動化的微粒描述特性系統是可能提供答復您尋找的一個新的分析工具。 這個系統與統計上重大的微粒形狀和顆粒大小評定結合優質圖像。

小說充分地集成的乾燥粉末散射系統減少範例準備時間和極大改進評定的反覆性。

強大和直觀數據分析工具保證您使多數脫離您的評定數據。

  • 顆粒大小評定: 使用保證不同的放大在充分的顆粒大小中的高分辨率请排列 (0.5µm - 3000µm) 使用圈子等同的直徑參數, Morphologi G3 準確地計算顆粒大小評定。
  • 微粒形狀評定: 微粒形狀參數的範圍例如伸長,環狀和凸形被計算。 這些參數允許是否則無形的對微粒範圍技術的範例之間的細微的區別,被識別和被定量。
  • 微粒計數和外部微粒檢測: 這個情況在這個範例的每個微粒可以單個被評定和被記錄例如使圖像分析系統計數微粒的某些類型 - 為外部微粒檢測。

Morphologi G3 一覽:

  • 充分地集成乾燥粉末分散: 小說充分地集成的乾燥粉末散射系統減少範例準備時間和極大改進評定的反覆性
  • 統計意義: 分析 100 千位與這個鼠標的唯一單擊的微粒!
  • 沒有用戶偏心: 標準操作程序 (SOP)途徑允許所有儀器變量 (重點、光強度,放大等) 客觀地被記錄和被控制。 在一臺儀器開發的方法在一個單一文件可能世界各地電子上然後調用。
  • 保存優質圖像: 這個能力發現和記錄每個單個微粒的圖像啟用現象的視覺核實例如殘破的微粒、塊集岩、好,外部微粒等出現。
  • 準確,可重複和 『validatable』 : 保證圖像分析系統自動地校準在每個微粒分析前後使用多間距磨碎可追蹤對 NPL 的數據完整性 (國家物理實驗室)。 圖像分析儀依照 21CFR 部分 11 需求,并且充分的 IQ/OQ (安裝鑒定/可操作的鑒定) 說明文件是可用的。

Last Update: 25. September 2013 10:30

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