公園システムは XE-3DM の導入が付いている AFM を、突出部分および堀のプロフィールのために、サイドウォール荒さおよびイメージ投射設計されている十分に自動化された AFM システムおよび臨界角の測定革命化しました。 XE シリーズの結合解除された X-Y および Z のスキャンシステムによって可能にされる XE-3DM の一義的なデザインは切り込み機能、また表面の性格描写を可能にします。 公園システムの使用で無接触モードを、 XE-3DM 他のどの XE シリーズプラットホームもと同じスキャンニングスピードで柔らかい光硬化性樹脂の構造の非破壊的なイメージ投射を実現できます調整して下さい。
切り込みおよびサイドウォールへの高リゾリューションアクセス
- サンプルおよび先端のための 2 独立、クローズド・ループ X-Y および Z のたわみのスキャンナー
- Z スキャンナーは -40 から +40 度から横に傾きます
- 正常で高いアスペクトレシオの使用は高リゾリューションイメージ投射のためにひっくり返ます
- 100 まで µm X の 100 µm の X-Y スキャン
- 高い力のスキャンナーによる 25 まで um Z スキャン範囲
本当の無接触モードによる非破壊的なカドミウムおよびサイドウォールの測定
- 10 piezotube より倍大きい Z スキャン帯域幅
- 延長された良質および高解像イメージ投射のためのより少ない先端の摩耗
- 最小化されたサンプル損傷か修正
- 柔らかい光硬化性樹脂の構造は視覚化された非有害である場合もあります
- 叩くイメージ投射で観察されるパラメータ依存した結果からの免除
サイドウォールの 3D 度量衡学を完了して下さい
- サイドウォールの荒さの測定
- サイドウォールの臨界角の測定
- 縦のサイドウォールの重大な次元の測定
高いスループットインラインオートメーション
- 正当なサンプルの大きさ: 200/300mm のウエファー
- 堀、突出部分および切り込み機能の自動データ収集そして分析
- 自動先端交換 (任意選択)
- ウエファーの処理のための装置の (EFEM)フロント・エンドモジュール (任意選択)
- クリーンルームコンパティビリティおよびリモート・コントロールインターフェイス