公園系統 XE-3DM 基本強制顯微鏡

公園系統 XE-3DM 基本強制顯微鏡

公園系統改革了與 XE-3DM 的簡介的 AFM、為突出物和溝槽配置文件設計的充分地自動化的 AFM 系統,側壁坎坷和想像和臨界角評定。 XE-3DM 的唯一設計,使成為可能由 XE 串聯的被分離的 X - Y 和 Z 掃描系統,允許咬邊功能以及頂面的描述特性。 在使用公園系統的请配齊沒有接觸的模式, XE-3DM 能認識到軟的光致抗蝕劑結構非破壞性的想像以掃描速度和其他 XE 串聯平臺一樣。

對咬邊和側壁的高分辨率存取

  • 二獨立,閉環 X - Y 和 Z 彎曲掃描程序範例和技巧的
  • 掀動 Z 掃描程序斜向一邊從 -40 到 +40 度
  • 對正常高長寬比的使用為高分辨率想像打翻
  • 100 µm x 100 µm X - Y 的掃描
  • 25 um Z 由高強制掃描程序的掃描範圍

由真的沒有接觸的模式的非破壞性的 CD 和側壁評定

  • 10 次更大的 Z 掃描帶寬比 piezotube
  • 長時期的優質和高分辨率想像的較少技巧穿戴
  • 減到最小的範例故障或修改
  • 軟的光致抗蝕劑結構可以是印象非破壞性
  • 從在開發的想像觀察的參數從屬的結果的免疫

完成 3D 側壁計量學

  • 側壁坎坷評定
  • 側壁的臨界角評定
  • 垂直的側壁的重要維數評定

高處理量軸向自動化

  • 允許的樣本大小: 200/300mm 薄酥餅
  • 自動對溝槽、突出物和咬邊功能的數據收集和分析
  • 自動技巧替換 (選項)
  • 設備薄酥餅處理的 (EFEM)期初模塊 (選項)
  • 清潔的房間兼容性和遙控界面

Last Update: 15. July 2013 04:38

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