有步驟和掃描自動化的公園系統 XE-100 基本強制顯微鏡

XE-100 是我們的有減少的偏差費率和在沒有接觸的 nanoscale 計量學方面提供最終 AFM/SPM 性能的步驟和掃描自動化的旗艦 AFM。 它是材料學、聚合物、電化學和其他應用的一個中間定價的系統在 nanoscience 和工程。 它可能採用與其開放副存取的各種各樣的光學聯結。

由干擾清除的人工製品自由想像

  • 二獨立,閉環 X - Y 和 Z 彎曲掃描程序範例和技巧的
  • 出於平面行動少於 2 毫微米在整個掃描排列
  • 100 與低殘餘的弓的 µm x 100 µm 平面和線性 X - Y 的掃描
  • 由高強制掃描程序的 25 µm Z 掃描
  • 準確高度評定
  • 少於 0.5 nm/min 的減少的偏差費率

由真的沒有接觸的模式的最終 AFM 解決方法

  • 10 次更大的 Z 掃描帶寬比 piezotube
  • 長時期的優質和高分辨率想像的較少技巧穿戴
  • 減到最小的範例故障或修改
  • 從在開發的想像觀察的參數從屬的結果的免疫

由 EZ 設計的用戶便利

  • 對技巧和範例的大開存取
  • 短冷期技巧替換 & EZ 激光對準線
  • 容易的頂頭刪除的鳩尾榫鎖定掛接
  • 高分辨率光學查看的直接在軸光學
  • 動力化的光學階段

與模件平臺的充分的選項兼容性

  • 充分的 SPM 模式和選項
  • 開張光學聯結的副存取
  • 與步驟和掃描自動化的評定的動力化的範例階段

Last Update: 15. July 2013 04:38

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