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牛津仪器 ThinFilmID 薄膜检验和维数

构成的原地下来薄膜的评定和厚度的 ThinFilmID 对在 SEM 的 1nm。

ThinFilmID 使用能源分散性 X-射线光谱 (EDS) 评定层的构成和厚度在一个薄膜结构的。

此技术有为客户提供真正益处两个根据方法速度、优化和易用好处的一个唯一组合。

福利

  • 空间被解决的评定 - 请分析在范例的一个特殊观点
  • 非常好的交往数量和仅上百毫微米 - 控制的纳诺缩放比例侧向解决方法在低 kV
  • 评定层的构成和厚度
  • 评定层从 <1nm to2000nm="">
  • 评定与 7 块层的结构加上与 16 个要素的基体。
  • 为数据收集的简单的优化的唯一可解性和模拟工具适应
  • 没有需要短剖面结构的非破坏性的技术
  • 最小的范例准备 = 时间和成本节省
  • 与现有的 SEMs 和 INCAEnergy 一起使用,没有唯一硬件需要

Last Update: 31. January 2012 23:50

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