牛津儀器 ThinFilmID 薄膜檢驗和維數

構成的原地下來薄膜的評定和厚度的 ThinFilmID 對在 SEM 的 1nm。

ThinFilmID 使用能源分散性 X-射線光譜 (EDS) 評定層的構成和厚度在一個薄膜結構的。

此技術有為客戶提供真正益處兩個根據方法速度、優化和易用好處的一個唯一組合。

福利

  • 空間被解決的評定 - 请分析在範例的一個特殊觀點
  • 非常好的交往數量和仅上百毫微米 - 控制的納諾縮放比例側向解決方法在低 kV
  • 評定層的構成和厚度
  • 評定層從 <1nm to2000nm="">
  • 評定與 7 塊層的結構加上與 16 個要素的基體。
  • 為數據收集的簡單的優化的唯一可解性和模擬工具適應
  • 沒有需要短剖面結構的非破壞性的技術
  • 最小的範例準備 = 時間和成本節省
  • 與現有的 SEMs 和 INCAEnergy 一起使用,沒有唯一硬件需要

Last Update: 31. January 2012 23:50

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