構成的原地下來薄膜的評定和厚度的 ThinFilmID 對在 SEM 的 1nm。
ThinFilmID 使用能源分散性 X-射線光譜 (EDS) 評定層的構成和厚度在一個薄膜結構的。
此技術有為客戶提供真正益處兩個根據方法速度、優化和易用好處的一個唯一組合。
福利
- 空間被解決的評定 - 请分析在範例的一個特殊觀點
- 非常好的交往數量和仅上百毫微米 - 控制的納諾縮放比例側向解決方法在低 kV
- 評定層的構成和厚度
- 評定層從 <1nm to2000nm="">
- 評定與 7 塊層的結構加上與 16 個要素的基體。
- 為數據收集的簡單的優化的唯一可解性和模擬工具適應
- 沒有需要短剖面結構的非破壞性的技術
- 最小的範例準備 = 時間和成本節省
- 與現有的 SEMs 和 INCAEnergy 一起使用，沒有唯一硬件需要