Il NUOVO sistema per il fascio di elettroni diretto scrive. La stabilità Migliore, un nuovo Generatore di Sequenze di Digital e un'ottica di elettrone ultraelevata di risoluzione provocano le nuove specifiche.
Il RAITH150-TWO spetta la scelta primaria dei Centri di Ricerca Nani per il modello ultra di alta risoluzione nell'intervallo di nanometro e delle applicazioni complesse sulle maschere e sui wafer ad a 8 pollici. Un generatore di sequenze 20-MHz facendo uso dei modi di riempimento ottimizzati del reticolo accorcia i tempi di esposizione. La Stabilità è migliorata dalla protezione recentemente progettata con il controllo della temperatura indipendente.
Il RAITH150-TWO utilizza gli ultimi sviluppi nella tecnologia dell'ottica di elettrone. Un percorso di raggio senza inter unico dà estremamente a luce abbagliante le densità di corrente di circa 20.000 A/cm2 che consegnano la risoluzione di modello ultraelevata congiuntamente alla capacità di lavorazione aumentata della litografia.
Applicazioni Chiave
- Combini con la litografia ottica
- Modello Avanzato dell'unità
- Esposizioni sui wafer e sulle maschere
- Fabbricazione del Modello