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Il Fascio di Elettroni di RAITH150-TWO Diretto Scrive il Sistema

Il NUOVO sistema per il fascio di elettroni diretto scrive. La stabilità Migliore, un nuovo Generatore di Sequenze di Digital e un'ottica di elettrone ultraelevata di risoluzione provocano le nuove specifiche.

Il RAITH150-TWO spetta la scelta primaria dei Centri di Ricerca Nani per il modello ultra di alta risoluzione nell'intervallo di nanometro e delle applicazioni complesse sulle maschere e sui wafer ad a 8 pollici. Un generatore di sequenze 20-MHz facendo uso dei modi di riempimento ottimizzati del reticolo accorcia i tempi di esposizione. La Stabilità è migliorata dalla protezione recentemente progettata con il controllo della temperatura indipendente.

Il RAITH150-TWO utilizza gli ultimi sviluppi nella tecnologia dell'ottica di elettrone. Un percorso di raggio senza inter unico dà estremamente a luce abbagliante le densità di corrente di circa 20.000 A/cm2 che consegnano la risoluzione di modello ultraelevata congiuntamente alla capacità di lavorazione aumentata della litografia.

Applicazioni Chiave

  • Combini con la litografia ottica
  • Modello Avanzato dell'unità
  • Esposizioni sui wafer e sulle maschere
  • Fabbricazione del Modello

Last Update: 3. February 2012 16:25

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