Луч Электронов RAITH150-TWO Сразу Пишет Систему

НОВАЯ система для луча электронов сразу пишет. Улучшенная стабилность, новый Генератор Картины Цифров и ультравысокая оптика электрона разрешения приводят к в новых спецификациях.

RAITH150-TWO основной выбор Nano Исследовательских Центров для ультра высокого разрешения делая по образцу в ряде нанометра и сложных применениях на масках и вафлях до 8 дюймов. Генератор картины 20-MHz используя оптимизированные режимы картины заполняя сокращает выдержки. Стабилность улучшена заново конструированный защищать с независимым контролем температуры.

RAITH150-TWO использует самые последние развития в технологии оптики электрона. Уникально крест-над-свободный путь луча дает весьма высокие плотности потока в пучке около 20.000 A/cm2 поставляя ультравысокое делая по образцу разрешение в комбинации с увеличенным объём литографированием.

Ключевые применения

  • Смешивани-и-Спичка с оптически литографированием
  • Предварительное прототипирование прибора
  • Выдержки на вафлях и масках
  • Изготавливание Шаблона

Last Update: 3. February 2012 16:33

Ask A Question

Do you have a question you'd like to ask the manufacturer of this equipment or can you provide feedback regarding your use of this equipment?

Leave your feedback
Submit
Other Equipment