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RAITH150-TWO 直接的电子束写系统

直接的电子束的新的系统写道。 被改进的稳定性、一个新的数字式模式生成程序和超离频的解决方法电子光学导致新的说明。

RAITH150-TWO 是纳诺研究中心在毫微米范围和在屏蔽和薄酥饼的复杂应用主要选择超高分辨率仿造 8 英寸。 使用优化模式装载的模式的一个 20 MHz 模式生成程序缩短曝光时间。 稳定性经过最近被设计的保护改进与独立温度控制。

RAITH150-TWO 在电子光学技术使用后期发展。 一个唯一跨在自由的光束路径产生非常高光束提供超离频的仿造的解决方法的大约 20,000 个 A/cm2 电流密度与增加的石版印刷处理量的组合。

关键应用

  • 混合搭配与光学制版
  • 先进的设备原型
  • 在薄酥饼和屏蔽的风险
  • 模板制造

Last Update: 3. February 2012 16:17

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