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RAITH150-TWO 直接的電子束寫系統

直接的電子束的新的系統寫道。 被改進的穩定性、一個新的數字式模式生成程序和超離頻的解決方法電子光學導致新的說明。

RAITH150-TWO 是納諾研究中心在毫微米範圍和在屏蔽和薄酥餅的複雜應用主要選擇超高分辨率仿造 8 英寸。 使用優化模式裝載的模式的一個 20 MHz 模式生成程序縮短曝光時間。 穩定性經過最近被設計的保護改進與獨立溫度控制。

RAITH150-TWO 在電子光學技術使用後期發展。 一個唯一跨在自由的光束路徑產生非常高光束提供超離頻的仿造的解決方法的大約 20,000 个 A/cm2 電流密度與增加的石版印刷處理量的組合。

關鍵應用

  • 混合搭配與光學制版
  • 先進的設備原型
  • 在薄酥餅和屏蔽的風險
  • 模板製造

Last Update: 3. February 2012 16:18

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