半自動の熱い浮彫りになるシステム - EV のグループからの EVG520HE

半自動の熱い浮彫りになるシステム - EV のグループからの EVG520HE

EVG520HE 半自動の熱い浮彫りになるシステムは浮彫りになり、 nanoimprinting アプリケーションのために設計されています。 EVG 200 までの mm からのこの生産証明されたシステムは基板を受け入れ、標準半導体の製造技術と互換性があります。

熱い浮彫りになるシステムはユニバーサル浮彫りになる区域、高真空、高温および高接触力の機能と設定され、熱い浮彫りになることのために適したポリマーおよび複数のガラスの全範囲を管理します。 高面の比率の浮彫りになることおよび多重非浮彫りになるオプションとともに良質パターン転送および nm の解像度のための多くのプロセスは提供されます。

EVG520HE 半自動の熱い浮彫りになるシステムの機能は下記のものを含んでいます:

  • ポリマー基板のそしてポリマーおよびガラス回転の熱い浮彫りになり、 nanoimprinting アプリケーションのため
  • 自動化された浮彫りになるプロセス
  • EVG の所有物の光学的に一直線に並べられた浮彫りになり、捺印のための別のアラインメントプロセス
  • 空気の非浮彫りになるオプション
  • ソフトウェアの制御されたプロセス実行
  • UV-NIL オプション

Last Update: 11. January 2012 06:21

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