Lithographie Robotisée de Nanoimprint De Pas - ZÉRO EVG770 De Pas du Groupe d'EV

Lithographie Robotisée de Nanoimprint De Pas - ZÉRO EVG770 De Pas du Groupe d'EV

La Lithographie de Nanoimprint Automatisée par EVG770 du Groupe d'EV (NIL) De Pas est conçue pour des procédés de la Lithographie d'UV-Nanoimprint de vaste zone de phase et de répétition (UV-NIL) compatibles 100 millimètres jusqu'aux disques de 300 millimètres. Les applications De Pas de panneaux de ZÉRO aiment les sciences de la vie, les composants optiques, la maîtrise, le 3D-Lithography et la R&D pour des dispositifs de semi-conducteur.

Les Caractéristiques techniques de l'EVG770 ont Automatisé ZÉRO De Pas comprennent :

  • Nettoyez À L'aspirateur l'impression sur a tourner-sur la couche de polymère, qui élimine des délivrances de défaut provoquées par les bulles-éventuel enfermées d'air ayant pour résultat la fidélité supérieure de configuration
  • Senseurs Optiques qui alignent l'estampille et le disque dans le parallélisme parfait pour la compensation sans contact de clavette
  • Jetez le mouvement par l'intermédiaire d'un système de non contact de roulement pour réduire la contamination de particules
  • Système À Haute Précision de cadrage avec l'exactitude dans +/--500 nanomètre ; Cadrage Fin : 50nm (optionnel)
  • la mesure de Charge-Cellule de la force, d'améliorer l'uniformité d'empreinte et la fiabilité de procédé dues au contrôle de force d'active et de tenir compte du temps réel, caractérisation in-situ de disponible dans le commerce varié résiste et d'anti-coller d'embossing/de-embossing des couches
  • Niveaux Flexibles d'automatisation de matériel, rendant ZÉRO De Pas, un passage facile et économique à partir de la R&D à la fabrication de petite taille- ou à fort débit
  • Facteur de forme De facto de descripteur pour diminuer le temps de retournement de fabrication
  • La Capacité pour supporter un hôte de disponible dans le commerce résiste avec des viscosité variables entre 1 à plusieurs 1.000 mPas, améliorant la souplesse de processus pour le moulage micro et nanopatterning

Last Update: 11. January 2012 06:16

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