Le Système de Mesure de Mappage d'Épaisseur de Film SRM100 peut mesurer l'épaisseur de film et l'Indice de réfraction en travers des échantillons aussi grands que 300x300mm.
Caractéristiques techniques
Les Caractéristiques techniques du Système de Mesure de Mappage d'Épaisseur de Film SRM100 comprennent
- Facile à installer et utiliser avec le logiciel basé d'Hublot
- Types Variés de substrat de la géométrie jusqu'à 300x300mm ou à 300mm de diamètre
- Types Variés de configuration de mappage tels que des coordonnées linéaires, polaires, carrées ou arbitraires
- Bloc optique Avancé et design robuste pour les meilleures performances système
- Rangez le système basé de détecteur pour assurer la mesure rapide
- Tracez l'épaisseur de film et l'Indice De Réfraction jusqu'à 5 couches
- Le Système vient avec la base de données optique complète et la bibliothèque de constantes
- Comprenez les recettes utilisées généralement
- Le Logiciel Avancé de TFProbe permet à l'utilisateur d'utiliser la table de NK, la dispersion ou l'approximation pertinente de medias (EMA) pour chaque film individuel.
- Extensible au système de mappage de MSP (Microspectrophotomètre) avec la reconnaissance des formes, ou au Grand Endroit pour tracer au-dessus de la structure modelée ou décrite (avec le Modèle de Zonerage)
- Appliquez aux beaucoup le type différent de substrats avec l'épaisseur différente
- graphiques 2D et de la sortie 3D et surface adjacente conviviale de gestion des données avec des résultats statistiques
Applications
Le Système de Mesure de Mappage d'Épaisseur de Film SRM100 est adapté pour utiliser dans :
- Fabrication de Semi-conducteur (P.R., Oxyde, Nitrure.)
- Écran à cristaux liquides (ITO, P.R., écartement de Cellules .....)
- Films et matériaux Biologiques
- Couches Optiques, TiO2, SiO2, TaO25 .....
- Composés de Semi-conducteur
- Films Fonctionnels dans MEMS/MOEMS
- SI Amorphe, nano et cristallin