Semions-IonenEnergie-und IonenMagnetfeld-Analyse-Anlage durch Impedans

Die Semionâ-„¢ Bremsfeld-Energie-Analysegeräten-Anlage wird konstruiert, um die IonenEnergie und IonenMagnetfeld an einer voreingenommenen Oberfläche in einer Plasmakammer zu messen.

Die Semionâ-„¢ Anlage besteht einem Bremsfeld-Energie-Analysegeräten- (RFEA)MultigitterFühler, Kammer Zufuhr-durch Einheit, elektronischem Steuergerät und aus Anwendersoftware.

Impedans setzt eine Reichweite 3 4 des Gitterbremsfeldes Analysegeräte des Gitters ein und, um Energieverteilungs- und -ionenmagnetfeldmaße der Industrie zur Verfügung zu stellen führende Ionen.

Der RFEA-Fühler kann an einer Elektroden-/Substratflächenhalterung oder in einen blinden Wafer montiert werden, um Prozessbedingungen des Wafers zu prüfen.

Die Semionâ-„¢ Anlage ist für Einbau auf einer großen Auswahl von Plasmaquellkonfigurationen geeignet; capacitively verbunden, verbunden, Magnetron, induktiv schräg pulsiert, kaskadischer Lichtbogen und Fernquelle.

Semionâ-„¢ kann unter den folgenden schrägen Bedingungen (einzel-, Doppel- und Mehrfrequenz) verwendet werden
  • Geerdet
  • GLEICHSTROM
  • Schwimmen
  • HF
  • Pulsiert/formte schräg
Ein eindeutiges Merkmal des Produktes ist die Fähigkeit, den RFEA-Fühler auf eine getriebene schräge Elektrode zu legen. Der RFEA-Fühler schwimmt mit der Elektrode, die einem Wafer oder einer Substratfläche ähnlich ist und kann das Ionenmagnetfeld und die Ionenenergie an der Substratflächenoberfläche messen, ohne den Prozess zu stören.

Das Semionâ-„¢ Steuergerät liefert alle erforderlichen Gitterspannungsvorspannungen und kommt mit Software, den RFEA-Fühler automatisch zu fegen und zu steuern.

Merkmale
  • Substratfläche montierter Bremsfeld-Energie-Analysegeräten-Fühler
  • In-situmaß von
  • IonEnergie-Verteilung
  • IonMagnetfeld
  • IonStrom
  • Elektron Magnetfeld und Energie
  • Maß von IonenEnergie in bis zu 2500eV mit Druck bis zu 300mT
  • Setzen Sie Zeit entschlossenen Maßfähigkeit bis zu 500kHz für pulsierte Anlagen, mit Zeitauflösung von 44nS fest
  • Plasma, das adjustent Merkmal des möglichen Maßes schwimmt
  • Einfach einzubauen, kein Kammerumbau benötigt
  • Tragbare Anlage, Analyse in den mehrfachen Kammern unter Verwendung der Einzelanlage erlaubend


Anwendungen

Die Semionâ-„¢ Anlage findet viele Anwendungen in der Forschung und in der Industrie:
  • Plasma Forschung †„IEDF, IonenMagnetfeld, EEDF, negative Ionenuntersuchung
  • Halbleiterprozeß und -hilfsmittel R&D-†„Ätzung, PECVD, Absetzung
  • Materialien/Dünnfilm-Beschichtungsverfahrenentwicklung †„GLEICHSTROM-Magnetron-Spritzen, HiPIMS, HPPMS Usw.
  • IonTräger-Analyse
  • Solar-/Flachbildschirmprozeß und -hilfsmittel R&D-†„IEDF und Ionenmagnetfeldüberwachung
  • Hilfsmittel Gerät R&D-Stromversorgung, Kammerentwicklung
  • Plasma Herstellungsverfahren-Diagnosen - Bedingungsposten P.M. - Maßnahme VDC auf Vorspannung der Substratfläche

Last Update: 14. March 2012 08:26

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