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Système d'Énergie d'Ion de Semion et d'Analyse de Flux d'Ion par Impedans

Le „¢ de Semionâ Retardant le Système d'Analyseur d'Énergie de Zone est conçu pour mesurer l'Énergie d'Ion et le Flux d'Ion sur une surface décentrée dans une cavité de plasma.

Le Système du „¢ de Semionâ se compose d'une Sonde multigrille de Retard d'Analyseur (RFEA) d'Énergie de Zone, d'un assemblage en forme d'auget de cavité, d'une unité de commande électronique et d'un logiciel d'application.

Impedans utilise un domaine le réseau 3 du réseau et 4 retardant des analyseurs de zone pour fournir de principales mesures de flux de distribution et d'ion d'énergie d'ion d'industrie.

La Sonde de RFEA peut être montée sur un support d'électrode/substrat, ou dans un disque fictif pour échantillonner des conditions de traitement de disque.

Le Système du „¢ de Semionâ convient pour l'installation sur un large éventail de configurations de source de plasma ; capacitively accouplé, inductivement accouplé, magnétron, pulsé de biais, arc monté en cascade, et source distante.

Le „le ¢ de Semionâ peut être utilisé dans les conditions obliques suivantes (unique, double, et multifréquence)
  • Fondé
  • C.C
  • Flottement
  • RF
  • Pulsé/a formé de biais
Une fonctionnalité unique du produit est la capacité de mettre la sonde de RFEA sur une électrode oblique pilotée. La sonde de RFEA flotte avec l'électrode, assimilée à un disque ou à un substrat, et peut mesurer le flux d'ion et l'énergie d'ion sur la surface de substrat, sans toucher au procédé.

L'Unité de Commande du „¢ de Semionâ fournit toutes les polarisations exigées de tension de réseau et vient avec le logiciel pour balayer et régler la Sonde de RFEA automatiquement.

Caractéristiques techniques
  • Substrat monté Retardant la Sonde d'Analyseur d'Énergie de Zone
  • Mesure In-situ de
  • Distribution d'Énergie d'Ion
  • Flux d'Ion
  • Courant d'Ion
  • Flux et Énergie d'Électrons
  • Mesure des Énergies d'Ion dans jusqu'à 2500eV aux pressions jusqu'à 300mT
  • Calez la capacité resolved de mesure jusqu'à 500kHz pour les systèmes pulsés, avec la résolution temporelle de 44nS
  • Caractéristique technique adjustent de mesure potentielle flottante de Plasma
  • Facile à installer, aucune modification de cavité requise
  • Système mobile permettant l'analyse dans des cavités multiples utilisant le système unique


Applications

Le Système du „¢ de Semionâ trouve beaucoup d'applications dans la recherche et l'industrie :
  • € « IEDF, Flux d'Ion, EEDF, enquête négative de Recherches de Plasma d'ion
  • Gravure À L'eau Forte d'†de R&D de procédé et d'outil de Semi-conducteur « , PECVD, Dépôt
  • Matériaux/Film Mince Pulvérisation de Magnétron de C.C Vêtant de développement De Processus †« , HiPIMS, HPPMS Etc.
  • Analyse de Faisceau D'ions
  • € Solaire/À Panneau Plat « IEDF de R&D de procédé et d'outil et surveillance de flux d'ion
  • Bloc d'alimentation de R&D de Matériel d'Outil, développement de cavité
  • Diagnostics de Processus De Fabrication De Plasma - poteau P.M. de conditions - Mesure Volts Continu sur la tension de polarisation de substrat

Last Update: 14. March 2012 08:26

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