Fördröja för Semionâ „¢ Sätter In EnergiAnalysatorSystemet planläggs att mäta både JonEnergin, och JonFlux på ett tendentiöst ytbehandlar i en plasmakammare.
Systemet för Semionâ „¢ består av Fördröja Sätter In den EnergiAnalysator (RFEA)mång--rastret Sonden, kammare matning-till och med enheten som är elektronisk kontrollera enhets- och applikationprogramvara.
Impedans använder en spänna av 3 raster, och att fördröja för 4 raster sätter in analysatorer för att ge för jonenergi för bransch ledande mätningar för flux för fördelning och för jon.
RFEA-Sonden kan monteras på en elektrod-/substratehållare, eller i ett attrapprån villkorar att ta prov att bearbeta för rån.
Systemet för Semionâ „¢ är passande för installation på en lång räcka av plasmakällkonfigurationer; capacitively förbundet, inductively kopplat ihop, magnetron, pulserad snedhet, applåderad båge och avlägsen källa.
Semionâ „¢ kan användas under det efter bias villkorar (singeln, dubbel och mång--frekvens)
- Jordnintt
- DC
- Sväva
- RF
- Pulserad/formad snedhet
Ett unikt särdrag av produkten är kapaciteten att förlägga RFEA-sonden på en drivande bias elektrod. RFEA-sonden svävar med elektroden som är liknande till ett rån eller en substrate och kan mäta jonfluxen, och jonenergi på substraten ytbehandlar, utan att störa det processaa.
Den Semionâ „en ¢ Kontrollerar Enheten ger alla av krävda snedheter för rasterspänning och kommer med programvara att sopa och kontrollera RFEA-Sonden automatiskt.
Särdrag - Substraten monterat Fördröja Sätter In EnergiAnalysatorSonden
- I-situ mätning av
- JonEnergiFördelning
- JonFlux
- JonStröm
- ElektronFlux och Energi
- Mätningen av JonEnergier i upp till 2500eV på pressar upp till 300mT
- Tajma löst mätningskapacitet upp till 500kHz för pulserade system, med tidupplösning av 44nS
- Plasma som svävar det adjustent särdrag för potentiell mätning
- Lätt att installera, ingen krävd kammaremodifiering
- Bärbart system låta analys i multipelkammare genom att använda singelsystemet
Applikationer Systemet för Semionâ „¢ finner många applikationer i forskning och bransch:
- PlasmaForskning†”IEDF, JonFlux, EEDF, negationjonutredning
- Den processaa Halvledaren och bearbetar R&D-†”Etsar, PECVD, Avlagring
- Material/Tunna Filmar att Fräsa för Magnetron för DC Täcka för Processaa utvecklings†”, HiPIMS, HPPMS Etc.
- Jonen Strålar Analys
- Den processaa Sol-/LägenhetPanelen och bearbetar R&D-†”IEDF och jonfluxövervakning
- Bearbeta UtrustningR&D Driver tillförsel, kammareutveckling
- Mäter Fabriks- Processaa Diagnostik för Plasma - villkorar postar PM - Vdc på bias spänning för substraten