System för Semion JonEnergi och för JonFluxAnalys vid Impedans

Fördröja för Semionâ „¢ Sätter In EnergiAnalysatorSystemet planläggs att mäta både JonEnergin, och JonFlux på ett tendentiöst ytbehandlar i en plasmakammare.

Systemet för Semionâ „¢ består av Fördröja Sätter In den EnergiAnalysator (RFEA)mång--rastret Sonden, kammare matning-till och med enheten som är elektronisk kontrollera enhets- och applikationprogramvara.

Impedans använder en spänna av 3 raster, och att fördröja för 4 raster sätter in analysatorer för att ge för jonenergi för bransch ledande mätningar för flux för fördelning och för jon.

RFEA-Sonden kan monteras på en elektrod-/substratehållare, eller i ett attrapprån villkorar att ta prov att bearbeta för rån.

Systemet för Semionâ „¢ är passande för installation på en lång räcka av plasmakällkonfigurationer; capacitively förbundet, inductively kopplat ihop, magnetron, pulserad snedhet, applåderad båge och avlägsen källa.

Semionâ „¢ kan användas under det efter bias villkorar (singeln, dubbel och mång--frekvens)
  • Jordnintt
  • DC
  • Sväva
  • RF
  • Pulserad/formad snedhet
Ett unikt särdrag av produkten är kapaciteten att förlägga RFEA-sonden på en drivande bias elektrod. RFEA-sonden svävar med elektroden som är liknande till ett rån eller en substrate och kan mäta jonfluxen, och jonenergi på substraten ytbehandlar, utan att störa det processaa.

Den Semionâ „en ¢ Kontrollerar Enheten ger alla av krävda snedheter för rasterspänning och kommer med programvara att sopa och kontrollera RFEA-Sonden automatiskt.

Särdrag
  • Substraten monterat Fördröja Sätter In EnergiAnalysatorSonden
  • I-situ mätning av
  • JonEnergiFördelning
  • JonFlux
  • JonStröm
  • ElektronFlux och Energi
  • Mätningen av JonEnergier i upp till 2500eV på pressar upp till 300mT
  • Tajma löst mätningskapacitet upp till 500kHz för pulserade system, med tidupplösning av 44nS
  • Plasma som svävar det adjustent särdrag för potentiell mätning
  • Lätt att installera, ingen krävd kammaremodifiering
  • Bärbart system låta analys i multipelkammare genom att använda singelsystemet


Applikationer

Systemet för Semionâ „¢ finner många applikationer i forskning och bransch:
  • PlasmaForskning†”IEDF, JonFlux, EEDF, negationjonutredning
  • Den processaa Halvledaren och bearbetar R&D-†”Etsar, PECVD, Avlagring
  • Material/Tunna Filmar att Fräsa för Magnetron för DC Täcka för Processaa utvecklings†”, HiPIMS, HPPMS Etc.
  • Jonen Strålar Analys
  • Den processaa Sol-/LägenhetPanelen och bearbetar R&D-†”IEDF och jonfluxövervakning
  • Bearbeta UtrustningR&D Driver tillförsel, kammareutveckling
  • Mäter Fabriks- Processaa Diagnostik för Plasma - villkorar postar PM - Vdc på bias spänning för substraten

Last Update: 14. March 2012 08:27

Ask A Question

Do you have a question you'd like to ask the manufacturer of this equipment or can you provide feedback regarding your use of this equipment?

Leave your feedback
Submit
Other Equipment