Semionâ „¢ 减速场能源分析程序系统被设计评定离子能源和离子涨潮在等离子房间的偏心的表面。
Semionâ „¢ 系统包括减速场能源分析程序 (RFEA)多栅的探测、房间穿通线的集合、电子控制部件和应用软件。
Impedans 使用 3 网格和 4 网格减速场分析程序的范围提供行业主导的离子能源配电器和离子涨潮评定。
RFEA 探测可以被挂接在电极/基体持有人，或者在一个假的薄酥饼抽样薄酥饼处理条件。
Semionâ „¢ 系统适用于各种各样的等离子来源配置的安装; capacitively 耦合，耦合，磁控管，引人地搏动倾斜，级联的弧和远程来源。
Semionâ „¢ 可以在下列偏压条件 (单一下使用，双重和多频)
这个产品的一个唯一功能是这个能力安置 RFEA 探测在一个被驱动的偏压电极。 RFEA 探测浮动与电极，相似与薄酥饼或基体，并且可能评定离子涨潮和离子能源在基体表面，无需干扰这个进程。
Semionâ „¢ 控制装置提供所有必需的栅压偏心并且来与软件自动地转移和控制 RFEA 探测。
功能 - 基体被挂接的减速场能源分析程序探测
- 原地评定
- 离子能源配电器
- 离子涨潮
- 离子当前
- 电子通量和能源
- 离子能源的评定在至 2500eV 的以至 300mT 的压
- 计时解决的评定功能至搏动的系统的 500kHz，与 44nS 的时间分辨率
- 浮动潜在的评定 adjustent 功能的等离子
- 容易安装，没有需要的房间更新
- 可移植的系统允许在多个房间的分析使用唯一系统
应用 Semionâ „¢ 系统查找在研究和行业的许多应用：
- 等离子研究 †“IEDF，离子涨潮， EEDF，负离子调查
- 半导体进程和工具 R&D †“铭刻， PECVD，证言
- 材料/涂上工艺过程开发 â€的薄膜 “DC 磁控管飞溅， HiPIMS， HPPMS 等。
- 离子束分析
- 太阳/平板进程和工具 R&D †“IEDF 和离子涨潮监控
- 工具设备 R&D 供电，房间发展
- 等离子制造过程诊断 - 情况过帐 PM - 在基体偏压的评定 Vdc