Semionâ „¢ 減速場能源分析程序系統被設計評定離子能源和離子漲潮在等離子房間的偏心的表面。
Semionâ „¢ 系統包括減速場能源分析程序 (RFEA)多柵的探測、房間穿通線的集合、電子控制部件和應用軟件。
Impedans 使用 3 網格和 4 網格減速場分析程序的範圍提供行業主導的離子能源配電器和離子漲潮評定。
RFEA 探測可以被掛接在電極/基體持有人，或者在一個假的薄酥餅抽樣薄酥餅處理條件。
Semionâ „¢ 系統適用於各種各樣的等離子來源配置的安裝; capacitively 耦合，耦合，磁控管，引人地搏動傾斜，級聯的弧和遠程來源。
Semionâ „¢ 可以在下列偏壓條件 (單一下使用，雙重和多頻)
這個產品的一個唯一功能是這個能力安置 RFEA 探測在一個被驅動的偏壓電極。 RFEA 探測浮動與電極，相似與薄酥餅或基體，并且可能評定離子漲潮和離子能源在基體表面，无需干擾這個進程。
Semionâ „¢ 控制裝置提供所有必需的柵壓偏心并且來與軟件自動地轉移和控制 RFEA 探測。
功能 - 基體被掛接的減速場能源分析程序探測
- 原地評定
- 離子能源配電器
- 離子漲潮
- 離子當前
- 電子通量和能源
- 離子能源的評定在至 2500eV 的以至 300mT 的壓
- 計時解決的評定功能至搏動的系統的 500kHz，與 44nS 的時間分辨率
- 浮動潛在的評定 adjustent 功能的等離子
- 容易安裝，沒有需要的房間更新
- 可移植的系統允許在多個房間的分析使用唯一系統
應用 Semionâ „¢ 系統查找在研究和行業的許多應用：
- 等離子研究 †「IEDF，離子漲潮， EEDF，負離子調查
- 半導體進程和工具 R&D †「銘刻， PECVD，證言
- 材料/塗上工藝過程開發 â€的薄膜 「DC 磁控管飛濺， HiPIMS， HPPMS 等。
- 離子束分析
- 太陽/平板進程和工具 R&D †「IEDF 和離子漲潮監控
- 工具設備 R&D 供電，房間發展
- 等離子製造過程診斷 - 情況過帳 PM - 在基體偏壓的評定 Vdc