電子工学、光電子工学、マイクロエレクトロニクス光通信、環境科学、薄膜の生産の領域で働き、人間工学包んでいる供給することのリーダーは、私達の薄膜の R & D および製造の顧客へうまく設計された、プロセス互換性のある基板のヒーターを半導体、および固体物理学、化学、および薄膜装置設計および技術適用しました。
青い波の基板のヒーターは物理的な蒸気沈殿および化学気相堆積のような薄膜の沈殿技術のために特に設計されています。 基板のヒーターは真空、酸素および反応ガスに互換性がある統合された高温化学抵抗力がある製陶術が付いている専門の高温酸化そして化学抵抗力がある金属の合金で 900°C まで作動している間構成され、 1000°C. 青い波のヒーターまでの不活性か真空で装置製造の均一薄膜、コーティングおよび高い収穫の基板に均一温度を提供するヒーターの表面積を渡る例外的な温度の均等性を持って下さい。
青い波は 2 つの技術を、 1 酸化物の基づくか、または反応プロセスのために専用されている、および真空プロセスに基づいて他提供します
典型的な機能は下記のものを含んでいます: ヒーター全体の温度の変化は 2" までのための 2-5% の内にヒーターあり、 12" までのための 5-10% はウエファーまたは基板の 800°C. 温度の直径のウエファー 1°C. の内で制御されます。
ヒーターは使用できます
1) 2.0 インチカラーとの 1.6 インチ OD の熱いゾーン、
2) 3 インチカラーが付いている 2.2 インチ OD のヒーター
3) 3.5 インチカラーが付いている 3.1 インチ OD のヒーター
4) 4.5 インチカラーが付いている 4.1 インチ OD のヒーター
すべてのカラーはサンプル土台のための通された穴と叩かれます