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Sistema de microondas de plasma - GIGAfab A por PVA Tepla

Sistema de microondas de plasma GIGAfab A200/300

El GIGAfab A es un muy compacto, de alto rendimiento, Wafer automática único Aser proporcionar muy bajo costo de propiedad. Está diseñado para servir a la corriente principal de semiconductores resistir stripping, esp. alta dosis implantada resistir, así como las aplicaciones de fabricación de MEMS y de los tamaños de obleas descum hasta 300 mm. Las características únicas del sistema, como la isotropía fuertes y las altas tasas de cenizas a una temperatura moderada sustrato que sea una herramienta perfecta para una amplia gama de láminas de limpieza y agotamiento aplicaciones como:

  • Resistir a la eliminación y descum en forma de disco golpes
  • La eliminación de la capa de sacrificio fotosensible, poliamida, etc PMMA
  • Rápido resistir la incineración después de altas dosis de implante y RIE
  • 300 mm de obleas reclamar
  • La eliminación de SU-8 epoxi resisten

El GIGAfab A está equipado con una única fuente plana de plasma de microondas, proporcionando altos índices de ceniza en una amplia gama de temperaturas. En combinación con Chemraz sellos, los gases fluorados proceso se puede aplicar. La plataforma modular permite configurar el sistema para 200 o obleas de 300 mm con cinta abierta, así como estaciones de FOUP o SMIF carga. El mandril de obleas con pasadores de elevación de carga es controlada termoeléctrica de la temperatura ambiente hasta 250 ° C. Opción adicional es un generador de hidrógeno con certificación ATEX, actuando como un punto de suministro de gas de uso.

Last Update: 4. October 2011 00:55

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