PVA TePla によるイオン波 10 のガス血しょうシステム

イオン波 10 血しょうシステムはマイクロウェーブ血しょう技術の私達の最新の進歩です。 この低価格は小規模の鋳物場の必要性、大学および新興企業を目標とする進んだ機能と、中型のウエファーのバッチアセル設計されています。

イオン波 10 は新しい、最新式のコンポーネントおよびソフトウェアが正確にプロセスパラメータを制御するために装備されています。 そのプロセスモニタリングおよびデータキャプチャのソフトウェアは使用できる最も厳しい品質制御を可能にします。 この技術は力トランジスター、アナログ装置、センサー、光学装置、 photonics、 MEMS/MOEMS、生物装置、等のために正常に使用されました。

イオン波 10 の小さい足跡は最小の実験室スペースを必要とし、簡単なインストールおよび維持を提供します。 マイクロウェーブ血しょう技術を使用して、このシステムは電子静電気放電への最小の露出を用いる高い光硬化性樹脂の灰を振りかけるレートを作り出します (ESD)。

機能

イオン波 10 のガス血しょうシステムの主要特点は下記のものを含んでいます:

  • 小さいフィートプリントテーブルトップデザイン
  • 8つまで取り扱う水晶区域ウエファーおよび to25、 6" の上で運ぶ水晶ボートウエファー
  • Windows® の産業コンピュータはシステムを基づかせていました
  • グラフィカルユーザーインタフェースの (GUI)ソフトウェアは E95-1101 に半従います
  • プロセス開発のためのユーザーのアクセス制御、および維持のプログラミング
  • イーサネットによる遠隔プロセスモニタリング
  • 内蔵の診断機能およびアラーム記録
  • 調理法エディターは速く、多目的なパラメータ制御を提供します
  • 10.4 の」液晶表示装置の (LCD)接触パネルおよびキーボード
  • 調理法エディターシミューレータ・ソフトウェア
  • オンライン WEBベースのシミュレーション、トレーニングおよびサポート
  • プラグアンドプレイインストール

典型的なアプリケーション

イオン波 10 のガス血しょうシステムは普通のために使用されます:

  • 光硬化性樹脂の除去
  • ウエファーの descum
  • ぬれたエッチング前のウエファーのクリーニング
  • SU-8 取り外し
  • 不動態化の層のエッチング
  • 障害の分析のための装置カプセル化の解除
  • クリーニングおよび表面のアクティブ化
  • 化学トレース分析のための材料の低温灰を振りかけること
  • フィルターおよび膜のクリーニング

Last Update: 11. January 2012 06:21

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