Sistema do Plasma do Gás da Onda 10 do Íon por PVA TePla

O sistema do plasma da Onda 10 do Íon é nosso avanço mais atrasado na tecnologia do plasma da microonda. Este baixo custo, calcinador meados de-feito sob medida do grupo da bolacha é projectado com as características avançadas, visando as necessidades de fundições da pequena escala, universidades e empresas start-up.

A Onda 10 do Íon é equipada com os componentes e o software novos, avançados para controlar precisamente parâmetros de processamento. Seu software da monitoração de processo e da captura de dados permite os controles os mais estritos da qualidade disponíveis. Esta tecnologia foi usada com sucesso para transistor de potência, dispositivos análogos, sensores, dispositivos ópticos, photonics, MEMS/MOEMS, bio dispositivos, Etc.

A pegada pequena da Onda 10 do Íon exige o espaço mínimo do laboratório e prevê-o a instalação e a manutenção simples. Usando a tecnologia do plasma da microonda, este sistema produz taxas de incineração do fotoresistente alto com exposição mínima à electro descarga estática (ESD).

Características

As características Chaves do Sistema do Plasma do Gás da Onda 10 do Íon incluem:

  • Projecto Pequeno do tabletop da cópia do pé
  • Uma câmara de quartzo que acomoda até 8" bolachas e barcos de quartzo que levam acima de to25, 6" bolachas
  • O computador Industrial com Windows® baseou o sistema
  • O software Gráfico (GUI) da Interface de Utilizador segue com Semi o E95-1101
  • Controlo de acessos do Usuário para a revelação de processo, e programação da manutenção
  • Monitoração de processo Remota através do Ethernet
  • Características diagnósticas A Bordo e registo do alarme
  • O editor da Receita oferece o controle de parâmetro rápido e versátil
  • 10,4” painéis e teclados (LCD) de toque do Indicador de Cristal Líquido
  • Software de simulador do editor da Receita
  • Web Em Linha simulação, treinamento e apoio baseados
  • A instalação Apto para a utilização

Aplicações Típicas

O Sistema do Plasma do Gás da Onda 10 do Íon é usado tipicamente para:

  • Descascamento do Fotoresistente
  • Descum da Bolacha
  • Limpeza da Bolacha antes gravura a água-forte molhada
  • Remoção SU-8
  • Gravura A Água-forte de camadas do passivation
  • Decapsulation do Dispositivo para a análise da falha
  • Limpeza e activação de superfície
  • Incineração de Baixa temperatura dos materiais para a análise de traço química
  • Limpeza dos filtros e das membranas

Last Update: 11. January 2012 04:50

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